| 번호 | 청구항 |
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| 9 | 제8항에 있어서,상기 기재 상에 능동 굴절률 변조층을 코팅하는 단계;는 용액에서의 화학 반응을 통한 코팅 혹은 전기적 증착법을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는, 능동 이색성 광학 소자의 제조방법. |
| 10 | 제8항에 있어서,상기 능동 굴절률 변조층에 증착된 금속 나노 구조체를 증착하는 단계;는상기 기재를 냉각하여 물리기상증착(physical vapor deposition, PVD)에 의해 증착이 이루어지는 것을 특징으로 하는, 능동 이색성 광학 소자의 제조방법. |
| 1 | 기재;상기 기재 상에 코팅된 능동 굴절률 변조층;상기 기재상에 증착된 금속 나노 구조체; 및상기 금속 나노 구조체 주변을 감싸는 형태의 능동 굴절률 변조층; 을 포함하는 능동 이색성 광학소자로서,상기 금속 나노 구조체는 적용되는 광의 공명 파장을 반사, 투과 및 산란시키는 것을 특징으로 하며,상기 능동 굴절률 변조층은 외부 에너지가 인가되어, 굴절률 변조를 통해 금속 나노 구조체의 공명 파장 제어하는 것을 특징으로 하며,상기 금속 나노 구조체는 상기 능동 굴절률 변조층 전체 면적 대비, 25 내지 50%의 면적을 채우도록 증착된 것이며,상기 능동 굴절률 변조층은 전도성 고분자 (폴리아닐린(Polyaniline, PANI), PEDOT-PSS), 금속 합금 물질 (Ge2Sb2SexTe5-x 합금(x는 0 내지 5의 정수이다), Sb2Se3, Sb2S3) 및 금속산화물 (VO2, TiO2)로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 능동 굴절률 변조물질을 포함하는 것을 특징으로 하는,능동 이색성 광학소자. |
| 2 | 제1항에 있어서,상기 기재는 인듐 주석 산화물(ITO), 플루오린 주석 산화물(FTO), 인듐 아연 산화물(IZO)을 포함하는 투명 전극인 것을 특징으로 하는, 능동 이색성 광학 소자. |
| 3 | 삭제 |
| 4 | 제1항에 있어서,상기 금속 나노 구조체는 금, 은, 구리, 니켈, 팔라듐, 마그네슘, 및 알루미늄으로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 금속인 것을 특징으로 하는, 능동 이색성 광학 소자. |
| 5 | 삭제 |
| 6 | 제1항에 있어서,상기 금속 나노 구조체는 1 내지 30 nm의 입경을 가지는 것을 특징으로 하는, 능동 이색성 광학 소자. |
| 7 | 제1항에 있어서,상기 외부 에너지는 전기, 열, 또는 압력으로부터 유래된 것을 특징으로 하는, 능동 이색성 광학 소자. |
| 8 | 제1항의 능동 이색성 광학 소자의 제조방법으로서,기재 상에 능동 굴절률 변조층을 코팅하는 단계;상기 능동 굴절률 변조층에 금속 나노 구조체를 증착하는 단계; 및 상기 금속 나노 구조체 상에 능동 굴절률 변조층을 코팅하는 단계;를 포함하는, 능동 이색성 광학 소자의 제조방법. |
| 11 | 제8항에 있어서,상기 금속 나노 구조체 상에 능동 굴절률 변조층을 코팅하는 단계;는상기 금속 나노 구조체의 표면을 감싸는 형상으로 능동 굴절률 변조 물질을 코팅하는 것을 특징으로 하는, 능동 이색성 광학 소자의 제조방법. |
| 12 | 제1항 따른 능동 이색성 광학 소자를 포함하는 글래스 패널. |
| 13 | 제1항 따른 능동 이색성 광학 소자를 포함하는 필름; 및 베이스 기재;를 포함하고,상기 필름 및 베이스 기재의 색이 동일하며,외부 에너지를 가하여 상기 필름의 색이 변화하는 것을 특징으로 하는, 광학 보안 소자. |
