Ce 전구체 용액에 염기성 용액을 첨가하여 제1 혼합용액을 제조하는 제1 단계;상기 제1 혼합용액에 PAA 또는 PAAAMA 중에서 선택된 어느 하나의 고분자 용액을 첨가한 후 가열하여 제2 혼합용액을 제조하는 제2 단계;상기 제2 혼합용액을 냉각하고 침전물을 침전시키는 제3 단계; 및상기 침전물을 여과하여 CeO2 나노입자를 수득하는 제4 단계를 포함하고,상기 CeO2 나노입자는 표면에 상기 PAA 또는 PAAAMA 중에서 선택된 어느 하나의 고분자로 코팅된 것을 특징으로 하는,조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 제1 단계에서, 상기 Ce 전구체 용액은 TEG에 Ce(NO3)3・6H2O를 첨가하여 제조된 것인,조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제2항에 있어서,상기 Ce 전구체 용액은 50 내지 70℃의 온도에서 제조되는 것인,조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 제1 단계에서, 상기 제1 혼합용액의 pH는 9 내지 10 인,조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 제1 단계에서, 상기 염기성 용액은 NaOH 인,조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 제2 단계에서, 상기 가열은 100 내지 120℃로 가열하는 것인,조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 제1 단계에서, 상기 Ce 전구체 용액은 50 내지 70℃의 온도에서 TEG에 Ce(NO3)3・6H2O를 첨가하여 제조되고, 상기 염기성 용액은 NaOH 이며,상기 제1 혼합용액의 pH는 9 내지 10 이고, 상기 제2 단계에서, 상기 가열은 100 내지 120℃로 수행되는 것인,조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 CeO2 나노입자의 크기는 1.0 내지 3.0 nm 인 것을 특징으로 하는, 조영제용 CeO2 나노입자의 제조방법.

제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 제조방법에 따라 제조되는 나노입자로서, CeO2 나노입자 및 상기 CeO2 나노입자 표면에 PAA 또는 PAAAMA 중에서 선택된 어느 하나의 고분자로 코팅된 코팅층을 포함하는,조영제용 CeO2 나노입자.

상기 CeO2 나노입자는 CT 조영제로 사용되는 것인,조영제용 CeO2 나노입자.