| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 티타늄 n-프로폭사이드, 텅스텐 헥사이소프로폭사이드, 물, 유기용매 및 질산을 혼합하여 졸(sol)을 제조하는 광촉매 졸 제조단계;상기 광촉매 졸을 기판상에 도포하여 막을 형성하는 광촉매 막 형성단계; 및상기 광촉매 막을 열처리하여 필름을 제조하는 광촉매 필름 제조단계;를 포함하는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 2 | 삭제 |
| 3 | 제1항에 있어서,상기 광촉매 필름의 제조방법은 상기 광촉매 막 형성단계 이전에 상기 기판상에 베리어 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 4 | 제3항에 있어서,상기 베리어 층을 형성하는 단계는무수 에틸알코올, 염산, 물 및 테트라에틸오르쏘실리케이트(tetraethylorthosilicate: TEOS)를 포함하는 실리카 졸 제조단계;상기 기판상에 상기 실리카 졸 용액을 도포하여 층을 형성하는 실리카 층 형성단계; 및상기 실리카 층을 300 내지 400℃의 온도로 열처리하는 베리어 층 형성단계;를 포함하는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 5 | 제4항에 있어서,상기 무수 에틸알코올, 염산, 증류수 및 테트라에틸오르쏘실리케이트(tetraethylorthosilicate: TEOS)는 몰비율이 8 내지 15 : 0.01 내지 0.05 : 2 내지 6 : 1 인 광촉매 필름의 제조방법. |
| 6 | 제4항에 있어서,상기 실리카 층 형성단계는 스핀 코팅법에 의해 2200 내지 4200 rpm으로 20 내지 60초 동안 수행되는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 7 | 제1항에 있어서,상기 유기용매는 부틸 알코올 또는 에틸 알코올을 포함하는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 8 | 제1항에 있어서,상기 광촉매 막 형성단계는 스핀 코팅법에 의해 2200 내지 4200 rpm으로 20 내지 60초 동안 수행되는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 9 | 제1항에 있어서,상기 광촉매 필름 제조단계는 400 내지 600 ℃의 온도에서 40 내지 80분 동안 열처리하는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 10 | 제1항에 있어서,상기 광촉매 필름은 티타니아(TiO2)-삼산화텅스텐(WO3) 복합체를 포함하고,티타니아(TiO2)-삼산화텅스텐(WO3) 복합체 100 중량%에 대하여, Ti-O-W 결합을 25 내지 35 중량% 포함하는 광촉매 필름의 제조방법. |
| 11 | 삭제 |
| 12 | 기판,상기 기판 상에 형성된 배리어 층 및상기 배리어 층 상에 형성된 광촉매 필름을 포함하고,상기 광촉매 필름은 청구항 제1항에 기재된 방법으로 제조된 광촉매 필름인 광촉매 복합 소재. |
| 13 | 제12항에 있어서,상기 배리어 층은 CeO2, SiO2, SnO2, MgF2, Al2O3, TiO2, ZrO2, Ta2O5, MgO 또는 SiN을 포함하는 광촉매 복합 소재. |
