인화코발트 나노입자를 제조하는 단계; 및상기 인화코발트 나노입자를 전극에 코팅하는 단계;를 포함하는 인화코발트 나노입자를 포함하는 수전해 촉매전극의 제조방법으로서,상기 인화코발트 나노입자를 제조하는 단계는,삼중 토치형 플라즈마 제트장치에 플라즈마 형성 가스를 주입하여 플라즈마 제트를 발생시키는 단계;상기 플라즈마 제트에 캐리어 가스를 이용하여 인/코발트 혼합물을 주입하고 기화시키는 단계; 및상기 기화된 인/코발트 혼합물을 냉각하여 인화코발트 나노입자를 회수하는 단계;를 포함하고,인/코발트 혼합물은 인 및 코발트를 1:23의 몰비로 혼합하고,상기 인화코발트 나노입자를 전극에 코팅하는 단계는,인화코발트 나노입자가 포함된 촉매 잉크를 제조하는 단계; 및상기 촉매 잉크를 전극에 코팅하는 단계;를 포함하고,상기 촉매 잉크를 제조하는 단계는,인화코발트 나노입자, 프로판올, 탈이온수 및 나피온(Nafion)를 혼합하는 혼합물 제조 단계; 및 상기 혼합물을 5070분 동안 초음파 처리하는 단계;를 포함하고,상기 인화코발트 나노입자의 결정구조는 Co2P 단일 결정구조이고,상기 전극에 코팅된 인화코발트 나노입자의 코팅양은, 상기 전극 표면 cm2당 1.2 mg인 것을 특징으로 하는,인화코발트 나노입자를 포함하는 수전해 촉매전극의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 인화코발트 나노입자는 구형이고, 직경이 100 nm 이하인 것을 특징으로 하는 인화코발트 나노입자를 포함하는 수전해 촉매전극의 제조방법.

제1항의 제조방법으로 제조된 수전해 촉매전극.