저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치 및 살균 방법
Apparatus for sterilizing dry powder using low temperature plasma and method using the same
특허 요약
본 발명은 반응부 내부에 설치되며, 전압을 공급하는 전원 공급부에 연결되는 제1전극; 상기 반응부 내부에 설치되며, 상기 제1전극의 하부에 상기 제1전극과 이격되어 마주보게 설치되며, 접지전극과 연결되는 제2전극; 및 상기 제1전극의 하부에 설치되는 복수개의 전극노즐; 을 포함하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치에 관한 것이다. 본 발명은 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치를 이용하여, (a) 상기 반응부로 기체를 유입하는 단계; (b) 상기 제1전극에 고전압을 인가하여 상기 전극노즐에 전기장을 발생시키는 단계; (c) 상기 제1전극과 제2전극 사이에서 플라즈마가 형성되어 유입된 기체를 활성화시키는 단계; 및 (d) 상기 활성화된 기체가 건조 분말내로 공급되어 상기 건조 분말을 살균처리하는 단계; 를 포함하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 방법에 관한 것이다.
청구항
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반응부 내부에 설치되며, 전압을 공급하는 전원공급부에 연결되는 제1전극, 상기 반응부 내부에 설치되며, 상기 제1전극의 하부에 상기 제1전극과 이격되어 마주보게 설치되며, 접지전극과 연결되는 제2전극, 상기 반응부의 일측에 설치되어 기체를 공급하는 유입구, 상기 반응부의 타측에 위치하여 기체를 배출하는 배출구 및 상기 제1전극의 하부에 설치되는 복수개의 전극노즐을 포함하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치를 이용하여,(a) 상기 반응부의 유입구를 통해서 상기 반응부 내부로 기체를 유입하는 단계;(b) 상기 제1전극에 직류전압을 인가하여 상기 전극노즐에 전기장을 발생시키는 단계;(c) 상기 제1전극과 제2전극 사이에서 플라즈마가 형성되어 유입된 기체를 활성화시키는 단계; 및(d) 상기 활성화된 기체가 건조 분말내로 공급되어 상기 건조 분말을 살균처리하는 단계; 를 포함하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 방법.

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제9항에 있어서,상기 (b) 단계는 고전압에 의해 전하가 상기 제1전극에서 제2전극으로 이동하여 건조 분말을 살균처리하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 분말의 살균 방법.

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제9항에 있어서,상기 전극노즐의 종단면은 침상인 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치.

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제9항에 있어서,상기 제1전극 및 제2전극은 판상인 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치.

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제9항에 있어서,상기 제1전극 및 제2전극의 사이에는 유전체 부재를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치.

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제13항에 있어서,상기 유전체 부재는 석영, 유리 또는 세라믹으로 이루어진 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 장치.

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제9항에 있어서,상기 전원공급부가 공급하는 상기 직류전압은 1000V 내지 50000V이며, 사용전류는 0.1mA 내지 1A인 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마를 이용한 건조 분말의 살균 방법.