폐수가 담겨져 있는 반응조;상기 반응조에 담겨져 내부에 중공부를 형성하며, 복수개의 기공이 형성된 소수성의 세라믹 멤브레인;상기 반응조의 일측에 연결설치되며, 상기 중공부와 연통하여 기체가 유입되는 기체 유입구; 및상기 중공부에 삽입되며 전기방전을 일으켜 유입된 기체를 활성화시키는 플라즈마 방전부; 를 포함하며, 활성화된 기체를 상기 기공을 통하여 폐수내로 공급하는 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제1항에 있어서,상기 반응조의 내부의 일측면은 상기 세라믹 멤브레인의 외경과 대응되는 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제1항에 있어서,상기 반응조는 기체 배출구를 추가로 포함하는 폐수 처리장치.

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제1항에 있어서,상기 세라믹 멤브레인은 외측 표면을 감싸는 코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제5항에 있어서,상기 코일은 접지전극을 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제1항에 있어서,상기 플라즈마 방전부는길이방향으로 확장되며 전압이 인가되어 플라즈마를 발생시키는 방전전극; 및 상기 방전전극의 외측 표면을 감싸는 유전체튜브; 를 포함하는 폐수 처리장치.

제7항에 있어서,상기 방전전극은 스테인리스 스틸, 탄소강, 구리, 황동, 티타늄, 텅스텐 또는 몰리브덴으로 이루어진 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제7항에 있어서,상기 유전체 튜브는 석영관, 유리관 또는 세라믹관으로 이루어진 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제1항에 있어서,상기 기공의 직경은 0.8 내지 10 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제1항에 있어서,상기 폐수를 상기 반응조에 공급하는 폐수 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제1항에 있어서,상기 기체는 공기, 산소, 질소 및 아르곤 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 폐수 처리장치.

제1항 내지 제3항, 제5항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 폐수 처리장치를 이용하여,상기 세라믹 멤브레인 중공부로 기체를 유입하는 단계;상기 방전전극에 전압을 가하여 플라즈마를 생성하여 유입된 기체를 활성화시키는 단계; 및상기 활성화된 기체가 폐수내로 공급되어 폐수를 정화처리하는 단계; 를 포함하는 폐수 처리방법.

제13항에 있어서,상기 방전전극에 인가되는 전압은 5 내지 30kV인 것을 특징으로 하는 폐수 처리방법.

제13항에 있어서,상기 방전전극에 인가되는 전압의 주파수는 0.5 내지 1000kHz인 것을 특징으로 하는 폐수 처리방법.