제 10 항에 있어서,상기 결합하는 단계는 산소 플라즈마 결합을 통해 수행되는 것인,플랫폼 장치의 제조 방법.

다수의 마이크로웰(microwell)이 형성된 하판;상기 하판 상에 배치되고 마이크로플루이딕스(microfluidics) 칩을 포함하는 중간판; 및상기 중간판 상에 배치되고 유체가 주입되는 입수구를 포함하는 상판;을 포함하고,상기 하판 또는 상기 상판에 유체가 배출되는 배수구를 포함하는 것인,플랫폼 장치.

제 1 항에 있어서,상기 마이크로웰은 원기둥, 육각기둥 또는 팔각기둥 형상을 가지는 것인,플랫폼 장치.

제 1 항에 있어서,상기 마이크로웰은 25 μm 내지 35 μm의 직경을 가지는 것인,플랫폼 장치.

제 3 항에 있어서,상기 각각의 마이크로웰은 상기 마이크로웰 직경의 절반 이하의 간격으로 배치된 것인,플랫폼 장치.

제 4 항에 있어서,상기 마이크로웰은 30 μm 내지 35 μm의 깊이를 가지는 것인,플랫폼 장치.

제 1 항에 있어서,상기 하판 상의 상기 마이크로웰 패턴 분포는 900 mm2 내지 2,500 mm2의 면적을 가지는 것인,플랫폼 장치.

제 6 항에 있어서,상기 하판 상에 상기 마이크로웰이 50만개 내지 100 만개로 형성된 것인,플랫폼 장치.

제 1 항에 있어서,상기 중간판의 내벽은 500 μm 내지 800 μm의 높이를 가지는 것인,플랫폼 장치.

제 8 항에 있어서,상기 중간판은 상기 입수구 및 상기 배수구와 연결되는 유로를 포함하는 것인,플랫폼 장치.

다수의 마이크로웰(microwell)이 형성된 하판을 제조하는 단계; 및상기 하판 상에 마이크로플루이딕스(microfluidics) 칩을 포함하는 중간판을 배치하고, 상기 중간판 상에 상판을 배치하여 결합하는 단계;를 포함하는,플랫폼 장치의 제조 방법.

제 10 항에 있어서,상기 하판을 제조하는 단계는,기판 상에 포토리소그래피(photo-lithograpy) 공정을 통해 마이크로웰 패턴을 형성하는 단계;상기 마이크로웰 패턴이 형성된 기판 상에 실리콘 박막을 증착하는 단계; 및상기 기판이 노출된 부분을 플라즈마 건식 식각을 통해 식각하여 다수의 마이크로웰을 형성하는 단계;를 포함하는 것인,플랫폼 장치의 제조 방법.

제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 플랫폼 장치를 이용한 세포 포집 시스템에 있어서, 상기 입수구로 단일 세포 또는 핵을 포함하는 용액이 주입되고,상기 하판 내의 각각의 마이크로웰에 상기 단일 세포가 포집 되는 것인,단일 세포 또는 핵의 포집 시스템.

제 13 항에 있어서,상기 용액은 6,000 μl/min 내지 10,000 μl/min의 유량으로 주입되는 것인,단일 세포 또는 핵의 포집 시스템.

제 14 항에 있어서,상기 용액은 6.5 내지 10.8 범위의 레이놀즈 수(Reynolds number) 및 0.3 dyne/cm³ 내지 0.5 dyne/cm³ 범위의 전단응력(shear stress)을 가지는 층류(laminar flow)인 것인,단일 세포 또는 핵의 포집 시스템.

제 13 항에 있어서,상기 플랫폼 장치 내부는 55 mbar 내지 93 mbar의 압력 조건을 가지는 것인,단일 세포 또는 핵의 포집 시스템.

제 13 항에 있어서,상기 단일 세포 또는 상기 핵은 상기 마이크로웰 개수의 10% 내지 20%로 포집되는 것인,단일 세포 또는 핵의 포집 시스템.

제 17 항에 있어서,상기 단일 세포 또는 상기 핵이 5 만개 내지 20 만개로 포집되는 것인,단일 세포 또는 핵의 포집 시스템.