제1항, 제3항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 물질 공급 장치는, 상기 반응기 본체의 내부에 서로 다른 종류의 상기 첨가 물질을 선택적으로 제공하도록 상기 반응기 본체에 복수개가 마련된 것을 특징으로 하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

전구체와 반응물을 투입한 후 가열 공정을 진행하여 고온 고압의 반응 조건에서 메일라드(Maillard) 반응에 따라 가공향(process flavor)을 생성하는 반응기 본체; 및상기 반응기 본체의 일측에 연통되도록 마련되고, 상기 반응기 본체의 가열 공정이 진행될 때 상기 전구체 또는 상기 반응물 중 적어도 하나로 형성된 첨가 물질을 상기 반응기 본체의 내부에 연속적 또는 반연속적으로 추가 공급하는 물질 공급 장치;를 포함하며,상기 물질 공급 장치는,상기 첨가 물질을 밀폐 상태로 저장하는 물질 공급 챔버;상기 반응기 본체의 내부에 발생된 수증기를 상기 물질 공급 챔버의 상부로 안내하도록 상기 반응기 본체의 상부 일측 및 상기 물질 공급 챔버의 상부에 연결된 증기 유입부; 및상기 반응기 본체의 내부에 저장된 상기 첨가 물질을 상기 반응기 본체의 내부로 공급하도록 상기 물질 공급 챔버의 하부 및 상기 반응기 본체의 상부 타측에 연결된 물질 공급부;를 포함하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

삭제

제1항에 있어서,상기 물질 공급 챔버의 상부에는,상기 첨가 물질을 상기 물질 공급 챔버의 내부에 투입하기 위한 투입구가 형성되며, 상기 투입구를 밀폐시키기 위한 밀폐 마개가 개폐 가능하게 마련되는 것을 특징으로 하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제3항에 있어서,상기 증기 유입부는, 상기 반응기 본체의 상부 일측에서 상기 물질 공급 챔버의 상부로 상기 수증기를 안내하도록 상기 반응기 본체와 상기 물질 공급 챔버에 연결된 증기 유입 통로; 및상기 증기 유입 통로를 따라 유입되는 상기 수증기의 유동을 단속하도록 상기 증기 유입 통로에 배치되는 증기 유입 밸브;를 포함하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제4항에 있어서,상기 물질 공급부는,상기 물질 공급 챔버의 하부에서 상기 반응기 본체의 상부 타측으로 상기 첨가 물질을 안내하도록 상기 반응기 본체와 상기 물질 공급 챔버에 연결된 물질 공급 통로;상기 물질 공급 통로를 따라 공급되는 상기 첨가 물질의 유동을 단속하도록 상기 물질 공급 통로에 개폐 가능하게 배치되는 물질 공급 밸브; 및 상기 물질 공급 통로를 따라 공급되는 상기 첨가 물질의 공급량을 측정하도록 상기 물질 공급 밸브와 상기 반응기 본체 사이의 상기 물질 공급 통로에 배치되는 공급량 측정기;를 포함하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제5항에 있어서,상기 물질 공급 장치는,상기 반응기 본체의 가열 공정이 진행되는 과정에서 상기 증기 유입 밸브를 개방하여 상기 반응기 본체의 내부에서 발생되는 상기 수증기를 상기 물질 공급 챔버의 내부로 유입시키는 증기 유입 모드; 상기 증기 유입 밸브를 개방한 상태에서 상기 물질 공급 밸브를 개방하여 상기 물질 공급 챔버에 저장된 상기 첨가 물질을 상기 반응기 본체의 내부로 공급하는 물질 공급 모드; 및 상기 증기 유입 밸브와 상기 물질 공급 밸브를 차폐하여 상기 수증기의 유입 및 상기 첨가 물질의 공급을 중단하는 작동 정지 모드; 중 적어도 하나의 모드로 작동되는 것을 특징으로 하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제5항에 있어서,상기 물질 공급 장치는, 상기 물질 공급 챔버의 내부 공간과 연통되도록 마련되고, 상기 물질 공급 챔버에 저장된 상기 첨가 물질을 상기 반응기 본체에 안정적으로 공급하도록 상기 물질 공급 챔버의 내부 공간을 가압하는 가압 장치;를 더 포함하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제7항에 있어서,상기 가압 장치는, 상기 물질 공급 챔버의 내부 공간과 연통되는 실린더 형상으로 마련된 가압 실린더; 상기 가압 실린더의 내부에 이동 가능한 피스톤 형상으로 마련되는 가압 피스톤; 및상기 가압 피스톤의 이동을 위한 작동력을 제공하도록 상기 가압 피스톤에 연결된 액츄에이터;를 포함하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제8항에 있어서,상기 물질 공급 장치는, 상기 반응기 본체의 가열 공정이 진행되는 과정에서 상기 물질 공급 밸브를 차폐시킴과 아울러 상기 증기 유입 밸브를 개폐시킨 후 상기 가압 장치를 이용하여 상기 반응기 본체의 내부에서 발생되는 상기 수증기를 상기 물질 공급 챔버의 내부로 유입시키는 증기 유입 모드; 상기 물질 공급 밸브를 개방시킴과 아울러 상기 증기 유입 밸브를 차폐시킨 후 상기 가압 장치를 이용하여 상기 물질 공급 챔버에 저장된 상기 첨가 물질을 상기 반응기 본체의 내부로 공급하는 물질 공급 모드; 및 상기 증기 유입 밸브와 상기 물질 공급 밸브를 차폐시킴과 아울러 상기 가압 장치의 작동을 중단하여 상기 수증기의 유입 및 상기 첨가 물질의 공급을 중단하는 작동 정지 모드; 중 적어도 하나의 모드로 작동되는 것을 특징으로 하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제9항에 있어서, 상기 증기 유입 모드에서는, 상기 가압 피스톤이 상기 액츄에이터의 구동력에 의해 상기 내부 공간을 증가시키는 제1 방향으로 이동되거나, 또는 상기 가압 피스톤이 상기 액츄에이터의 구동력이 작용하지 않는 상태에서 상기 수증기의 압력에 의해 상기 제1 방향으로 이동되고, 상기 물질 공급 모드에서는, 상기 가압 피스톤이 상기 액츄에이터의 구동력에 의해 상기 내부 공간을 감소시키는 제2 방향으로 이동되어 상기 물질 공급 챔버의 내부 공간에 저장된 상기 첨가 물질이 상기 반응기 본체로 공급되는 것을 특징으로 하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 물질 공급 챔버의 하부에는,상기 첨가 물질이 상기 물질 공급부로 원활하게 미끄러져 이동되도록 상기 물질 공급부와 연결된 부위를 향해 하향 경사진 구조의 경사면부가 형성된 것을 특징으로 하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.

제1항, 제3항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반응기 본체는,상기 전구체와 상기 반응물을 수용하고, 가열 공정을 통해 상기 가공향을 생성하는 반응기 탱크;상기 반응기 탱크에 저장된 상기 전구체와 상기 반응물을 고온 고압으로 가열시키도록 상기 반응기 탱크의 외측에 배치되는 반응기 히터;상기 반응기 탱크의 내부에 배치되고, 상기 전구체와 상기 반응물을 교반시키는 교반기;상기 반응기 탱크에 배치되고, 상기 반응기 탱크의 내부 온도를 측정하는 온도계; 및 상기 반응기 탱크에 배치되고, 상기 반응기 탱크의 내부 압력을 측정하는 압력계;를 포함하는 연속식 및 유가식 고온 고압의 가공향 반응기.