방사선 물질로부터 생성된 광양자에 반응하여 광을 생성하는 것으로서, 제1방향을 따라 연장되며, 상기 제1방향에 대해 교차되는 제2방향을 따라 상호 이격되게 배열된 다수의 제1섬광부재와, 상기 제1섬광부재에 대해 교차될 수 있도록 상기 제1방향을 따라 상호 이격되게 배열되고, 상기 제2방향을 따라 연장형성된 다수의 제2섬광부재가 마련된 섬광검출유닛;상기 제1 및 제2섬광부재들의 양단부에 각각 설치되어 상기 제1 및 제2섬광부재들로부터 생성된 광을 전기적 신호로 변환하는 다수의 광전자 증배 부재; 및 상기 광전자 증배 부재들에 의해 변환된 전기적 신호를 토대로 상기 방사선 물질에 대한 정보를 산출하는 정보 산출부;를 포함하고, 상기 정보 산출부는 상기 광전자 증배 부재들에 의해 전환되는 전기적 신호를 분석하여 상기 각 광전자 증배 부재에서의 계수율을 산출하는 계수율 측정부;상기 섬광검출유닛에 대한 방사선 물질의 위치에 따른 상기 각 광전자 증배 부재에서 측정된 계수율의 변화에 대한 정보가 저장되는 것으로서, 상기 정보는 상기 각 광전자 증배 부재와 방사선 물질 사이의 이격거리에 따른 방사선 물질의 실제 계수율에 대한 상기 각 광전자 증배 부재에서 측정된 계수율의 비율인 데이터 베이스; 및 상기 계수율 측정부로부터 측정된 계수율과 상기 데이터 베이스에 저장된 정보를 토대로 상기 섬광검출유닛에 대한 방사선 물질의 위치를 산출하는 위치산출부;를 포함하고, 상기 위치산출부는상기 데이터 베이스에 저장된 정보를 토대로 상기 제1 및 제2섬광부재들 중 광이 생성된 섬광부재의 일단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재에서 측정된 계수율, 상기 섬광부재의 일단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재로부터 상기 방사선 물질까지의 이격거리 및 상기 방사선 물질의 실제 계수율에 대한 제1수식과, 상기 데이터 베이스에 저장된 정보를 토대로 상기 제1 및 제2섬광부재들 중 광이 생성된 섬광부재의 타단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재에서 측정된 계수율, 상기 섬광부재의 타단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재로부터 상기 방사선 물질까지의 이격거리 및 상기 방사선 물질의 실제 계수율에 대한 제2수식을 산출하고, 상기 제1 및 제2수식을 연립하여 상기 섬광검출유닛에 대한 방사선 물질의 위치를 산출하는, 방사선 모니터링 시스템.

제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2섬광부재는 플렉시블한 섬광섬유인,방사선 모니터링 시스템.

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제1항에 있어서, 상기 위치산출부는 상기 제1 및 제2섬광부재들 중 광이 생성된 섬광부재의 양단부에 각각 설치된 상기 광전자 증배 부재들에서의 계수율을 이용하여 상기 섬광검출유닛에 대한 방사선 물질의 위치를 산출하는, 방사선 모니터링 시스템.

제1항에 있어서, 상기 정보 산출부는 상기 위치산출부로부터 산출된 방사선 물질의 위치 정보, 상기 계수율 측정부를 통해 측정된 계수율 및 상기 데이터 베이스에 저장된 정보를 토대로 상기 방사선 물질의 방사능 값을 산출하는 방사능 산출부;를 더 포함하는,방사선 모니터링 시스템.

제5항에 있어서,상기 방사능 산출부는 상기 제1 및 제2섬광부재들 중 광이 생성된 섬광부재의 양단부에 각각 설치된 상기 광전자 증배 부재들에서의 계수율을 이용하여 상기 방사선 물질의 방사능 값을 산출하는,방사선 모니터링 시스템.

제6항에 있어서, 상기 방사능 산출부는상기 위치산출부에서 산출된 위치정보를 통해 상기 광전자 증배 부재들과 방사선 물질 사이의 이격거리를 산출하며, 상기 데이터 베이스에 저장된 정보를 토대로 상기 광전자 증배 부재들과 방사선 물질 사이의 이격거리에 대응되는 계수율의 변화 정보를 산출하고, 산출된 계수율의 변화 정보와 상기 각 광전자 증배 부재들에서의 계수율을 토대로 상기 방사선 물질의 실제 계수율을 산출하는,방사선 모니터링 시스템.

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방사선 물질로부터 생성된 광양자에 반응하여 광을 생성하는 섬광검출유닛과, 상기 섬광검출유닛의 양단부에 각각 설치되어 상기 섬광검출유닛으로부터 생성된 광을 전기적 신호로 변환하는 다수의 광전자 증배 부재가 마련된 방사선 모니터링 시스템을 이용한 방사선 모니터링 방법에 관한 것으로,상기 섬광검출유닛과 광전자 증배 부재를 준비하는 준비단계;모의 실험을 통해 상기 섬광검출유닛에 대한 방사선 물질의 위치에 따른 상기 광전자 증배 부재에서 측정된 계수율의 변화에 대한 정보를 획득하는 정보획득단계;상기 정보획득단계가 완료되면 상기 섬광검출유닛을 감시지역에 설치하는 설치단계;상기 설치단계 이후에 상기 광전자 증배 부재들에 의해 전환되는 전기적 신호를 분석하여 상기 각 광전자 증배 부재에서의 계수율을 산출하는 계수율 산출단계; 및 상기 계수율 산출단계에서 산출된 계수율을 토대로 상기 감시지역 내의 방사선 물질에 대한 정보를 산출하는 것으로서, 상기 정보획득단계를 통해 획득한 정보와 상기 계수율 산출단계를 통해 산출된 상기 각 광전자 증배 부재에서의 계수율을 토대로 방사선 물질의 위치를 검출하는 방사선 검출단계;를 포함하고, 상기 방사선 검출단계에서, 상기 정보획득단계를 통해 획득한 정보를 토대로 상기 섬광검출유닛의 상호 교차되게 배열된 제1 및 제2섬광부재들 중 광이 생성된 섬광부재의 일단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재에서 측정된 계수율, 상기 섬광부재의 일단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재로부터 상기 방사선 물질까지의 이격거리 및 상기 방사선 물질의 실제 계수율에 대한 제1수식과, 상기 정보획득단계를 통해 획득한 정보를 토대로 상기 제1 및 제2섬광부재들 중 광이 생성된 섬광부재의 타단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재에서 측정된 계수율, 상기 섬광부재의 타단부에 설치된 상기 광전자 증배 부재로부터 상기 방사선 물질까지의 이격거리 및 상기 방사선 물질의 실제 계수율에 대한 제2수식을 산출하고, 상기 제1 및 제2수식을 연립하여 상기 섬광검출유닛에 대한 방사선 물질의 위치를 산출하는, 방사선 모니터링 방법.

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제9항에 있어서, 상기 방사선 검출단계는 상기 광전자 증배 부재들에서의 전기적 신호 또는 상기 계수율 산출단계를 통해 산출된 상기 각 광전자 증배 부재에서의 계수율을 토대로 방사선 물질의 위치를 산출하는 위치 산출단계; 및 상기 위치 산출단계로부터 획득한 방사선 물질의 위치정보, 상기 계수율 산출단계를 통해 산출된 계수율 및 상기 정보획득단계를 통해 획득한 정보를 토대로 상기 방사선 물질의 계수율을 산출하는 계수율 산출단계;를 포함하는, 방사선 모니터링 방법.

제12항에 있어서, 상기 계수율 산출단계에서, 상기 섬광검출유닛의 상호 교차되게 배열된 제1 및 제2섬광부재들 중 광이 생성된 섬광부재의 양단부에 각각 설치된 상기 광전자 증배 부재들에서의 계수율을 이용하여 상기 방사선 물질의 방사능 값을 산출하는,방사선 모니터링 방법.

제13항에 있어서, 상기 계수율 산출단계는 상기 위치산출단계에서 산출된 위치정보를 통해 상기 광전자 증배 부재들과 방사선 물질 사이의 이격거리를 산출하며, 상기 정보획득단계에 획득한 정보를 토대로 상기 광전자 증배 부재들과 방사선 물질 사이의 이격거리에 대응되는 계수율의 변화율을 산출하고, 산출된 계수율의 변화율과 상기 각 광전자 증배 부재들에서의 계수율을 토대로 상기 방사선 물질의 방사선 값을 산출하는 단계인,방사선 모니터링 방법.

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