| 번호 | 청구항 |
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| 13 | 제 12 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 상기 샘플의 총 두께가 10nm 이상 10㎛ 이하가 되도록 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
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| 12 | 제 11 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 상기 샘플의 중간 부위의 게이지 길이가 250㎛ 이상 300㎛ 이하가 되도록 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 11 | 제 1 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 개 뼈 형상의 하드 마스크를 이용한 포토리소그래피(photolithography) 공정 진행 후 반응성 이온 에칭 공정에 의하여 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 1 | 비전도성 물질을 포함하는 폴리머층을 준비하는 폴리머층 준비 단계;상기 폴리머층 상에 희생층을 형성하는 희생층 형성 단계;상기 희생층 상에 평탄화막을 형성하는 평탄화막 형성 단계;상기 폴리머층, 희생층, 및 평탄화막을 개 뼈(dog-bone) 형상의 샘플로 형성하는 샘플 형상 형성 단계;상기 샘플을 선택적으로 에칭하는 에칭 단계; 및상기 에칭된 샘플을 건조하는 건조 단계를 포함하는 인장 시험편 제조 방법. |
| 2 | 제 1 항에서, 상기 폴리머층 준비 단계 이후에, 상기 폴리머층 상에 구리(copper) 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 인장 시험편 제조 방법. |
| 3 | 제 1 항에서, 상기 희생층 형성 단계 및 평탄화막 형성 단계는, 스핀 코팅(spin coating)법에 의해 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 4 | 제 1 항에서,상기 샘플 형상 형성 단계는, 프레스(press) 커팅법에 의해 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 5 | 제 4 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 상기 샘플의 중간 부위의 게이지 길이가 4mm 이상 6mm 이하가 되도록 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 6 | 제 5 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 상기 샘플의 총 두께가 500nm 이상 600nm 이하가 되도록 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 7 | 제 1 항에서, 상기 건조 단계는, 상기 샘플을 보조 가이드에 부착한 후 자연 건조하여 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 8 | 제 1 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 개 뼈 형상의 하드 마스크를 이용한 반응성 이온 에칭(reactive ion etching; RIE) 공정에 의하여 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 9 | 제 8 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 상기 샘플의 중간 부위의 게이지 길이가 1mm 이상 2mm 이하가 되도록 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
| 10 | 제 9 항에서, 상기 샘플 형상 형성 단계는, 상기 샘플의 총 두께가 100nm 이상 100㎛ 이하가 되도록 이루어지는 인장 시험편 제조 방법. |
