리튬 금속 전극, 리튬 금속 전극의 대 전극, 리튬 금속 전극과 대 전극 사이에 개재된 분리막 및 전해액이 내부 수용되는 전해액 기반 코인셀이며, 코인셀 케이스의 바닥면과 상기 리튬 금속 전극과 대 전극 중 바닥면 측에 위치하는 전극 사이에 위치하는 탄성 고분자 막을 포함하고, 상기 탄성 고분자 막은 실록산계 고분자 또는 불소계 고분자인 전해액 기반 코인 셀.

제 1항에 있어서,상기 코인셀은리튬 금속 전극인 제1전극, 리튬 이온이 가역적으로 탈삽입되는 활물질층이 구비된 대 전극인 제2전극, 상기 제1전극과 제2전극 사이에 개재된 분리막, 일 측이 개방되고 상기 제1전극, 분리막 및 제2전극과 액체 전해질을 수용하는 하부 케이스; 및 상기 하부 케이스의 개방된 일 측과 결합하는 상부 캡을 포함하며,상기 제1전극 및 제2전극 중 일 전극이 상기 하부 케이스측에 위치하며, 상기 코인셀 케이스의 바닥면은 상기 하부 케이스의 바닥면인 코인 셀.

제 2항에 있어서,상기 제1전극 및 제2전극 중 다른 일 전극과 상기 상부 캡 사이에 위치하는 스프링 및 스페이서를 더 포함하는 코인 셀.

제 2항에 있어서,상기 탄성 고분자 막은 막 표면에 형성된 금속 영역을 포함하고, 상기 금속 영역은 상기 하부 케이스측에 위치하는 상기 일 전극과 상기 하부 케이스간을 전기적으로 연결시키는 코인 셀.

제 4항에 있어서,상기 금속 영역은 상기 탄성 고분자 막 일 면의 가장자리에서 막의 측면을 통해 탄성 고분자 막 다른 일 면의 가장자리로 연장되는 금속 스트립을 포함하는 코인 셀.

제 5항에 있어서,둘 이상의 상기 금속 스트립이 이격 위치하는 코인 셀.

제 1항에 있어서,상기 탄성 고분자 막의 표면 일부 내지 전부는 플라즈마 처리된 코인 셀.

삭제

제 1항에 있어서,상기 탄성 고분자 막의 두께는 50 내지 250 μm인 코인 셀.

제 2항에 있어서,상기 탄성 고분자 막은 상기 하부 케이스 및 상기 일 전극 각각과 접하여 위치하는 코인 셀.