제 10항에 있어서,상기 냉각하는 단계는,22 내지 28 ℃에서 냉각하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

금속 표면에 하이드록실기(-OH)를 형성하는 단계;상기 표면에 하이드록실기가 형성된 금속을 링커(linker)를 포함하는 용액에 침지하여 고분자 사슬이 성장할 반응 위치를 형성하는 단계; 및상기 표면에 반응 위치가 형성된 금속을 개시제 및 단량체를 포함하는 혼합 용액에 침지 및 중합하여 고분자를 성장시켜 이형 특성층을 형성하는 단계;를 포함하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 있어서,상기 금속 표면에 하이드록실기를 형성하는 단계는,금속 표면을 파라냐(piranha) 용액으로 처리하여 하이드록실기를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 있어서,상기 고분자 사슬이 성장할 반응 위치를 형성하는 단계는,상기 표면에 하이드록실기가 형성된 금속을 링커를 포함하는 에탄올 용매에 침지하는 단계;상기 표면에 하이드록실기가 형성된 금속이 침지된 용매를 1차 교반하여 상기 하이드록실기 및 상기 링커의 수소 결합을 형성하는 단계; 및상기 1차 교반한 금속을 묽은 염산에 침지 및 2차 교반하여 상기 수소 결합을 공유 결합으로 치환하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 있어서,상기 링커는,3-머캡토프로필트리에톡시실란((3-mercaptopropyl)triethoxysilane, MPTES)인 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 3항에 있어서,상기 1차 교반은,22 내지 28 ℃에서 5 내지 7 시간 동안 교반하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 3항에 있어서,상기 2차 교반은,22 내지 28 ℃에서 10 내지 14 시간 동안 교반하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 있어서,상기 개시제는,아조비스아이소부티로니트릴(2,2-azobisisobutyronitrile, AIBN)인 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 있어서,상기 단량체는,소수성 단량체인 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 있어서,상기 단량체는,스테아릴 메타크릴레이트(stearyl methacrylate)인 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 있어서,고분자를 성장시켜 이형 특성층을 형성하는 단계는,상기 표면에 반응 위치가 형성된 금속을 톨루엔 용매에 담지하는 단계;상기 금속이 담지된 톨루엔 용액에 개시제 및 단량체를 첨가한 후 교반하여 중합하는 단계;상기 중합한 금속을 냉각하는 단계; 및상기 냉각된 금속을 세척 및 건조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 10항에 있어서,상기 교반하여 중합하는 단계는,60 내지 80 ℃에서 22 내지 26 시간 동안 교반하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 10항에 있어서,상기 세척 및 건조하는 단계는,다이메틸폼아마이드(DMF)로 1차 세척하는 단계;아세톤으로 2차 세척하는 단계;톨루엔으로 3차 세척하는 단계; 및 증류수로 4차 세척하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속 표면에 반영구적인 이형 특성을 부여하는 표면 처리 방법.

제 1항에 따른 방법으로 표면 처리하여, 표면에 이형 특성층이 형성된 금형.

제 14항에 있어서,상기 이형 특성층은,상기 금속 표면의 하이드록실기와 공유 결합을 형성하는 고분자 사슬이 형성된 것을 특징으로 하는, 표면에 이형 특성층이 형성된 금형.