볼밀링 공정을 이용한 무기물 입자의 표면 개질 방법 및 상기 방법으로 개질된 무기물 입자
Surface modification method of inorganic particles using ball milling process and surface modificated inorganic particles modificated by the method
특허 요약
본 발명은 무기물 입자의 표면 개질 방법 및 상기 방법으로 표면이 개질된 무기물 입자를 개시한다. 상기 무기물 입자의 표면 개질 방법은, 무기물 입자 및 실리콘 고분자를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계; 및 상기 혼합물과 밀링용 볼의 질량비가 1:5 내지 1:20이 되도록 상기 혼합물을 투입하여 볼밀링하는 단계를 포함한다.
청구항
| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 무기물 입자 및 실리콘 고분자를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계; 및상기 혼합물과 밀링용 볼의 질량비가 1:5 내지 1:20이 되도록 상기 혼합물을 투입하여 볼밀링하는 단계;를 포함하고,상기 무기물 입자는 산화금속이거나, 산화막을 표면에 갖고 있는 금속이고, 상기 금속은 티타늄, 철이며,상기 실리콘 고분자는 실록산 골격을 갖는 고분자이고,상기 실리콘 고분자의 점도가 500cSt 이상일 경우, 볼밀링 이전에 상기 실리콘 고분자를 유기 용매와 혼합하는 단계를 추가로 포함하고, 상기 유기 용매는 메탄올, 에탄올, 아세톤, 헥산 또는 톨루엔 중에서 선택되는 1종이며,상기 볼 밀링 단계는 25℃ 내지 100℃에서 12시간 내지 24시간 수행되는,무기물 입자의 표면 개질 방법. |
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| 6 | 제1항에 있어서,상기 볼밀링 단계 이후, 원심분리기를 이용하여 입자를 분리하는 단계를 추가로 포함하는,무기물 입자의 표면 개질 방법. |
| 7 | 제1항에 있어서,상기 무기물 입자는 둘 이상의 무기물 입자의 혼합물을 포함하는,무기물 입자의 표면 개질 방법. |
| 8 | 제1항에 있어서,상기 실록산 골격을 갖는 고분자는 실록산 골격을 갖는 블록 또는 랜덤 공중합체를 포함하는,무기물 입자의 표면 개질 방법. |
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