| 번호 | 청구항 |
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| 4 | 마이크로미터 크기의 기공을 포함하는 마이크로미터 크기의 메쉬 형태의 기판을 준비하는 단계;챔버에 상기 기판 및 실리콘 고분자 전구체를 투입하는 단계; 및상기 챔버에서 반응시키는 단계를 포함하고,상기 실리콘 고분자 전구체로 실록산 전구체를 이용하며,상기 반응에 의해 상기 기판에 나노미터 크기의 실리콘계 나노 구조체가 형성되며, 상기 나노 구조체는 나노 벨크로 구조체이며,상기 나노 벨크로 구조체는 지름이 5 내지 100nm이고,상기 마이크로미터 크기의 기공을 포함하는 마이크로미터 크기의 메쉬 형태의 기판의 표면에 상기 나노 벨크로 구조체가 배치되어 기판의 표면적을 넓히고 마이크로미터 크기의 기공을 유지시켜 낮은 압력 손실을 나타내는,가스상에서의 계층적 구조의 필터의 제조 방법. |
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| 6 | 제 4 항에 있어서,상기 기판의 경우 기판의 하이드록시기를 활성화하기 위해 산소 플라즈마 처리가 이루어진 기판인 것을 특징으로 하는,가스상에서의 계층적 구조의 필터의 제조 방법. |
| 7 | 제 4 항 또는 제 6 항의 방법에 따라 제조되고,기공을 포함하는 마이크로미터 크기의 메쉬 형태의 기판; 및상기 기판에 형성된 나노미터 크기의 실리콘계 나노 구조체를 포함하고,상기 나노 구조체는 상기 기판의 표면에 배치되며 기공을 막지 않도록 배치되는 것을 특징으로 하는,계층적 구조의 필터. |
| 8 | 제 7 항에 있어서,상기 나노 구조체는 나노 벨크로 구조체, 나노 필라 구조체 또는 나노 돌기 구조체인 것을 특징으로 하는,계층적 구조의 필터. |
| 9 | 제 7 항에 있어서,상기 기판의 기공의 크기는 마이크로미터 크기인 것을 특징으로 하는,계층적 구조의 필터. |
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