표면에 하이드록시기(-OH)를 포함하는 기판을 준비하는 단계;상기 기판을 실리콘 고분자에 담지시키거나 또는 상기 기판 표면에 실리콘 고분자를 코팅한 후 반응시켜 상기 기판 표면 상에 실리콘 고분자로 이루어진 브러쉬 형태의 구조물을 형성하는 단계; 및상기 실리콘 고분자 중 남아 있는 실리콘 고분자 물질이 상기 브러쉬 형태의 구조물을 덮는 윤활액 층을 형성하는 단계;를 포함하는,윤활 박막의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 윤활액 층을 형성하는 단계에서 가열을 수행함으로써 반응 속도가 증가되는 것을 특징으로 하는,윤활 박막의 제조방법.

제2항에 있어서,상기 가열은 300℃ 이하에서 수행되는 것을 특징으로 하는,윤활 박막의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 실리콘 고분자는 하기 화학식 1의 구조를 갖는 실록세인(siloxane) 결합을 주축(backbone)으로 갖는 고분자인 것을 특징으로 하는,윤활 박막의 제조방법:003c#화학식 1003e#상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 알킬기 또는 수소(H)이고, n은 5 내지 500 의 정수이다.

제4항에 있어서,상기 실리콘 고분자는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS)인 것인,윤활 박막의 제조방법.

제1항에 있어서,상기 실리콘 고분자 중 남아 있는 실리콘 고분자 물질이 상기 브러쉬 형태의 구조물을 덮는 윤활액 층을 형성하는 단계는, 상기 윤활액 층 및 상기 브러쉬 형태의 구조물이 동일한 화학 구조를 갖는 실리콘 고분자를 이용함에 의해 형성되는,윤활 박막의 제조방법.

제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 제조방법에 따라 제조된,윤활 박막.

제7항에 있어서,상기 윤활 박막은 액체에 대해서 비습윤인 것을 특징으로 하는,윤활 박막.

제8항에 있어서,상기 윤활 박막은 자가 세정이 가능한 것을 특징으로 하는,윤활 박막.

제7항에 있어서,상기 윤활 박막은 자가 치유가 가능한 것을 특징으로 하는,윤활 박막.

제10항에 있어서,상기 자가 치유는, 상기 윤활 박막이 손상되는 경우, 손상된 상기 윤활 박막 부분에 상기 윤활액 층의 실리콘 고분자로부터 브러쉬 형태의 구조물이 재합성되는 것을 특징으로 하는,윤활 박막.

제7항에 있어서,상기 윤활 박막은 부식 방지가 가능한 것을 특징으로 하는,윤활 박막.

제7항에 있어서,상기 브러쉬 형태의 구조물의 두께는 5 내지 30 nm 인,윤활 박막.