| 번호 | 청구항 |
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| 1 | a) 다공성 알루미나에 키토산을 함침시키는 단계;b) 상기 키토산이 함침된 다공성 알루미나에 1가 구리 화합물을 첨착시키는 단계; 및c) 불활성 기체 분위기 하에서 소성하는 단계;를 포함하고,상기 a) 단계에서 상기 다공성 알루미나 대비 함침된 키토산의 중량비는 0.01 내지 0.3 범위인 것인, 일산화탄소 흡착제의 제조방법. |
| 2 | 삭제 |
| 3 | 제1항에 있어서,상기 1가 구리 화합물은 CuCl, CuBr, CuI, CuSCN, Cu2S 및 Cu2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것인, 일산화탄소 흡착제의 제조방법. |
| 4 | 제1항에 있어서,상기 1가 구리 화합물은 CuCl을 포함하는 것인, 일산화탄소 흡착제의 제조방법. |
| 5 | 제1항에 있어서,상기 b) 단계의 첨착은 환류에 의해 수행되는 것인, 일산화탄소 흡착제의 제조방법. |
| 6 | 제1항에 있어서,상기 불활성 기체는 질소, 헬륨, 네온, 아르곤, 크립톤, 제논 및 라돈으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것인, 일산화탄소 흡착제의 제조방법. |
| 7 | 삭제 |
| 8 | 다공성 알루미나;상기 다공성 알루미나 내 질소 원자를 포함하는 탄소층; 및상기 다공성 알루미나 내 질소 원자를 포함하는 탄소층 상에 첨착된 1가 구리 화합물;을 포함하고,상기 질소 원자를 포함하는 탄소층은 키토산이 소성되어 형성되는 것이고,상기 다공성 알루미나 대비 상기 키토산의 중량비는 0.01 내지 0.3 범위인 것인, 일산화탄소 흡착제. |
| 9 | 삭제 |
| 10 | 삭제 |
| 11 | 제8항에 있어서,상기 질소 원자는 상기 1가 구리 화합물의 1가 구리 이온과 배위 결합하는 것인, 일산화탄소 흡착제. |
| 12 | 제8항에 있어서,상기 1가 구리 화합물은 CuCl, CuBr, CuI, CuSCN, Cu2S 및 Cu2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것인, 일산화탄소 흡착제. |
| 13 | 삭제 |
| 14 | 제8항에 있어서, 15일 보관 후 일산화탄소 흡착 용량이 10cm3/g 이상인, 일산화탄소 흡착제. |
| 15 | 제8항에 있어서, 30일 보관 후 일산화탄소 흡착 용량이 5cm3/g 이상인, 일산화탄소 흡착제. |
