다공성 기재의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 그래프트 공중합체의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체를 형성하는 단계;상기 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 초분자 구조 화합물의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체가 형성된 고분자 다층막을 제공하는 단계; 및상기 고분자 다층막을 어닐링하여 미세 상분리된 고분자막을 형성하는 단계를 포함하는, 나노기공 멤브레인의 제조 방법.

다공성 기재의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 그래프트 공중합체의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체가 형성된 고분자 다층막을 제공하는 단계;상기 고분자 다층막을 어닐링하여 미세 상분리된 고분자막을 형성하는 단계; 및 상기 고분자막의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 초분자 구조 화합물의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체를 형성하는 단계를 포함하는, 나노기공 멤브레인의 제조 방법.

제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 고분자막에서 친수성 단일 중합체를 제거하여 기공을 형성하는 단계를 더 포함하는, 나노기공 멤브레인의 제조 방법.

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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체는 아래의 일반식 2로 표시되는 나노기공 멤브레인의 제조 방법:일반식 2nBL상기 식에서 C는 단일 중합체의 적층으로 형성된 층을 표시하고, D는 초분자 구조 화합물 중 하나인 사이클로덱스트린의 적층으로 형성된 층을 표시하며, C/D는 C와 D의 바이레이어(bilayer,BL)로 형성된 반복단위를 표시하고, n은 교대 적층체 내에 포함된 상기 반복단위 바이레이어의 적층 횟수를 표시하며, 상기 n은 2 내지 100이다.

제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 초분자 구조 화합물은 크라운 에테르(crown ether), 싸이클로덱스트린(cyclodextrin), 로텍산(rotaxan), 제올라이트(zeolite), 포르피린(porphyrin), 쿠커비투릴(cucurbituril)로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인의 제조 방법.

제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 친수성 단일 중합체는 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리아크릴산 및 폴리비닐 알코올로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인의 제조 방법.

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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 그래프트 공중합체는,단일고분자사슬에 그래프트 고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-g-폴리아크릴산, 폴리에틸렌-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리이미드-g-폴리아크릴산 및 폴리스티렌-g-폴리아크릴산 등으로 구성된 군 또는공중합고분자사슬의 한 고분자에 그래프트고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜(폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드), 폴리이미드-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리스티렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인의 제조 방법.

제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 다공성 기재는 알루미나, 실리콘 웨이퍼 또는 다공성 고분자막인 나노기공 멤브레인의 제조 방법.

다공성 기재; 상기 다공성 기재의 표면에 형성된, 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체; 및상기 친수성 단일중합체와 그래프트 공중합체의 교대 적층체의 표면에 형성된, 친수성 단일중합체와 초분자 구조 화합물의 교대 적층체;를 포함하는, 나노기공 멤브레인.

제11항에 있어서, 상기 초분자 구조 화합물은 크라운 에테르(crown ether), 싸이클로덱스트린(cyclodextrin), 로텍산(rotaxan), 제올라이트(zeolite), 포르피린(porphyrin), 쿠커비투릴(cucurbituril)로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인.

제11항에 있어서, 상기 친수성 단일 중합체는 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리아크릴산 및 폴리비닐 알코올로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인.

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제11항에 있어서, 상기 그래프트 공중합체는단일고분자사슬에 그래프트 고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-g-폴리아크릴산, 폴리에틸렌-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리이미드-g-폴리아크릴산 및 폴리스티렌-g-폴리아크릴산 등으로 구성된 군 또는공중합고분자사슬의 한 고분자에 그래프트고분자가 연결된 경우로, 폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜(폴리에틸렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드), 폴리이미드-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌글리콜, 폴리스티렌-co-폴리아크릴산-g-폴리에틸렌옥사이드 로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 나노기공 멤브레인.

제11항에 있어서, 상기 다공성 기재는 알루미나, 실리콘 웨이퍼 또는 다공성 고분자막인 나노기공 멤브레인.

제11항의 나노기공 멤브레인을 이용한 미세유체소자.