다공성 기재의 표면에, 친수성 단일중합체의 적층과 양친매성 블록 공중합체의 적층을 교대로 반복하여 친수성 단일중합체와 양친매성 블록 공중합체의 교대 적층체로 형성된 고분자 다층막을 준비하는 단계;상기 수득된 고분자 다층막을 어닐링하여 양친매성 블록 공중합체가 매트릭스(matrix)가 되고, 친수성 단일 중합체가 분산상(domain)으로 존재하는 미세 상분리된 고분자막을 준비하는 단계; 및상기 고분자막에서 친수성 단일 중합체를 선택적으로 제거하여 기공을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성 기재의 표면에 형성된 다공성 박막의 제조방법.

제1항에 있어서, 상기 교대 적층체는 아래의 일반식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법:일반식 1nBL상기 식에서 A는 단일 중합체의 적층으로 형성된 층을 표시하고, B는 양친매성 블록 공중합체의 적층으로 형성된 층을 표시하며, A/B는 A와 B의 바이레이어(bilayer,BL)로 형성된 반복단위를 표시하고, n은 교대 적층체 내에 포함된 상기 반복단위 바이레이어의 적층 횟수를 표시하며, 상기 n은 2 내지 100이다.

제1항에 있어서, 상기 친수성 단일 중합체는 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리아크릴산 및 폴리비닐알코올로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법.

제1항에 있어서, 상기 양친매성 블록 공중합체는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리알킬(메타)아크릴레이트 및 폴리에스테르로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 소수성 고분자와; 폴리에틸렌옥사이드, 폴리프로필렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리아크릴산 및 폴리비닐알코올로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 친수성 고분자의 공중합체인 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법.

제4항에 있어서, 상기 양친매성 블록 공중합체는 폴리에틸렌-b-폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌-b-폴리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌-b-폴리아크릴산, 폴리스티렌-b-폴리에틸렌옥사이드 및 폴리스티렌-b-폴리아크릴산으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법.

제1항에 있어서, 상기 다공성 기재는 정밀여과막, 한외여과막, 나노여과막, 역삼투막 또는 정삼투막인 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법.

제1항에 있어서, 상기 다공성 기재는 알루미나 또는 실리콘 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법.

제7항에 있어서, 상기 알루미나 또는 실리콘 웨이퍼는 폴리(알릴아민 하이드로클로라이드)로 표면처리된 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법.

제1항에 있어서, 상기 기공크기는 표면적 분석법으로 측정한 값이 2 내지 100 나노미터인 것을 특징으로 하는 다공성 박막의 제조방법.

제1항의 방법으로 제조된 다공성 박막을 포함하는 수처리용 여과막.