| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 | 망가니즈(Mn)계 물질 및 비스무트(Bi)계 물질을 용융시켜, 망가니즈-비스무트(MnBi)계 합금잉곳을 제조하는 단계;가스분무(gas-atomization)를 통해, 상기 MnBi계 합금잉곳을 분사하여, MnBi계 예비분말을 제조하는 단계;상기 MnBi계 예비분말을 열처리하여, 저온 상(low-temperature phase, LTP)을 포함하는 LTP-MnBi계 강자성분말을 제조하는 단계; 및저-에너지 볼-밀링(low-energy ball milling)을 통해, 상기 LTP-MnBi계 강자성분말을 분쇄하여, MnBi계 자성분말을 제조하는 단계를 포함하되,상기 MnBi계 합금잉곳을 제조한 후 및 상기 가스분무 전에, 상기 MnBi계 합금잉곳을 용융 온도 보다 높은 온도로 과열(superheat)하는 단계를 더 포함하는, MnBi계 자성분말 제조방법. |
| 2 | 망가니즈(Mn)계 물질 및 비스무트(Bi)계 물질을 용융시켜, 망가니즈-비스무트(MnBi)계 합금잉곳을 제조하는 단계;가스분무(gas-atomization)를 통해, 상기 MnBi계 합금잉곳을 분사하여, MnBi계 예비분말을 제조하는 단계;상기 MnBi계 예비분말을 열처리하여, 저온 상(low-temperature phase, LTP)을 포함하는 LTP-MnBi계 강자성분말을 제조하는 단계; 및저-에너지 볼-밀링(low-energy ball milling)을 통해, 상기 LTP-MnBi계 강자성분말을 분쇄하여, MnBi계 자성분말을 제조하는 단계를 포함하되,상기 저-에너지 볼-밀링은, 1 시간 초과 내지 2 시간 미만으로 수행되는 것을 포함하는, MnBi계 자성분말 제조방법. |
| 3 | 제1 항에 있어서, 상기 열처리는,270 ℃ 초과 내지 330 ℃ 미만에서 수행되는 것을 포함하고,12 시간 초과 내지 48 시간 미만으로 수행되는 것을 포함하는, MnBi계 자성분말 제조방법. |
| 4 | 제1 항에 있어서, 상기 Mn계 물질 및 상기 Bi계 물질을 준비하는 단계를 더 포함하고,상기 Mn계 물질 및 상기 Bi계 물질은, MnxBi100-x의 화학 조성으로 제공되고,상기 x는 52 초과 내지 56 미만을 포함하는, MnBi계 자성분말 제조방법. |
| 5 | 제1 항에 있어서, 제조된 상기 MnBi계 예비분말을 체질(sieving)하는 단계를 더 포함하고,상기 체질 후에, 상기 MnBi계 예비분말은, 상기 체질 전보다 포화자화, 잔류자화, 각형비, 또는 보자력이 증가하는 것을 포함하는, MnBi계 자성분말 제조방법. |
| 6 | 제1 항에 있어서, 상기 분사 또는 상기 열처리는,비활성 가스 분위기에서 수행되는 것을 포함하는, MnBi계 자성분말 제조방법. |
| 7 | 제1 항에 있어서, 상기 용융은,아크-멜팅(arc-melting) 또는 진공 유도 용해(vacuum induction melting, VIM)을 통해 수행되는 것을 포함하는, MnBi계 자성분말 제조방법. |
| 8 | 삭제 |
| 9 | 망가니즈(Mn)계 물질 및 비스무트(Bi)계 물질을 용융시켜, 망가니즈-비스무트(MnBi)계 합금잉곳을 제조하는 단계;가스분무를 통해, 상기 MnBi계 합금잉곳을 분사하여, MnBi계 예비분말을 제조하는 단계;상기 MnBi계 예비분말을 열처리하여, 저온 상(LTP)을 포함하는 LTP-MnBi계 강자성분말을 제조하는 단계;저-에너지 볼-밀링을 통해, 상기 LTP-MnBi계 강자성분말을 분쇄하여, MnBi계 자성분말을 제조하는 단계;자장 중 성형(magnetic field pressing)을 통해, 상기 MnBi계 자성분말을 성형하여, MnBi계 성형체를 제조하는 단계; 및열간 가압 소결(hot pressing sintering)을 통해, 상기 MnBi계 성형체를 소결하여, MnBi계 영구자석을 제조하는 단계를 포함하되,상기 자장 중 성형은, 300 MPa 초과 내지 700 MPa 미만의 성형 압력으로 수행되는 것을 포함하는, MnBi계 영구자석 제조방법. |
| 10 | 삭제 |
| 11 | 제9 항에 있어서, 상기 저-에너지 볼-밀링은, 1 시간 초과 내지 2 시간 미만으로 수행되는 것을 포함하고,상기 열처리는, 270 ℃ 초과 내지 330 ℃ 미만에서, 12 시간 초과 내지 48 시간 미만으로 수행되는 것을 포함하는, MnBi계 영구자석 제조방법. |
| 12 | 제9 항에 있어서, 상기 Mn계 물질 및 상기 Bi계 물질을 준비하는 단계를 더 포함하고,상기 Mn계 물질 및 상기 Bi계 물질은, MnxBi100-x의 화학 조성으로 제공되고,상기 x는 52 초과 내지 56 미만을 포함하는, MnBi계 영구자석 제조방법. |
| 13 | 제9 항에 있어서, 제조된 상기 MnBi계 예비분말을 체질하는 단계를 더 포함하고,상기 체질 후에, 포화자화, 잔류자화, 각형비, 또는 보자력이 증가하는 것을 포함하는, MnBi계 영구자석 제조방법. |
| 14 | 제9 항에 있어서, 상기 분사 또는 상기 열처리는, 비활성 가스 분위기에서 수행되는 것을 포함하고,상기 용융은, 아크-멜팅(arc-melting) 또는 진공 유도 용해(vacuum induction melting, VIM)을 통해 수행되는 것을 포함하는, MnBi계 영구자석 제조방법. |
| 15 | 삭제 |