제1 항에 있어서, 상기 베이스 구조체는 다공성(porous) 구조를 갖는 것을 포함하는 광촉매.

이산화 티타늄(TiO2)을 포함하는 베이스 구조체; 및황화 아연(ZnS)을 포함하고 상기 베이스 구조체 상에 증착된 물질층을 포함하되,상기 물질층 내 황(S)의 함량이 제어됨에 따라, 가시광선 흡수 특성이 제어되는 것을 포함하는 광촉매.

제9 항에 있어서, 상기 물질층 내 황(S)의 함량이 57 at% 이하로 제어됨에 따라, 가시광선 흡수 특성이 향상되는 것을 포함하는 광촉매.

이산화 티타늄(TiO2)을 포함하는 베이스 구조체를 준비하는 단계; 및상기 베이스 구조체 상에 아연(Zn)을 포함하는 전구체와 황(S)을 포함하는 반응물질을 제공하여, 상기 전구체와 상기 반응물질이 반응된 물질층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 전구체의 제공 시간 대비 상기 반응물질의 제공 시간이 제어됨에 따라, 가시광선 흡수 특성이 제어되는 것을 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제1 항에 있어서, 상기 전구체의 제공 시간 대비 상기 반응물질의 제공 시간이 4배 초과 6배 미만으로 제어됨에 따라, 가시광선 흡수 특성이 향상되는 것을 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제2 항에 있어서, 상기 전구체는 1초 동안 제공되고, 상기 반응물질은 4초 초과 6초 미만 동안 제공되는 것을 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제1 항에 있어서, 상기 물질층을 형성하는 단계는, 상기 베이스 구조체 상에 상기 전구체를 제공하는 단계; 상기 전구체가 제공된 상기 베이스 구조체를 1차 퍼지(purge)하는 단계; 1차 퍼지된 상기 베이스 구조체 상에 상기 반응물질을 제공하는 단계; 및 상기 반응물질이 제공된 상기 베이스 구조체를 2차 퍼지(purge)하는 단계를 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제4 항에 있어서, 상기 전구체 제공 단계, 상기 1차 퍼지 단계, 상기 반응물질 제공 단계, 및 상기 2차 퍼지 단계는 유닛 공정(Unit Process)으로 정의되고,상기 유닛 공정은 복수회 반복되는 것을 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제5 항에 있어서, 상기 유닛 공정의 반복 횟수에 따라 상기 물질층의 두께가 제어되는 것을 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제1 항에 있어서, 상기 전구체는, DEZ(Diethyl zinc)를 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제1 항에 있어서, 상기 반응물질은, 황화 수소(H2S)를 포함하는 광촉매의 제조 방법.

제1 전극 구조체; 상기 제1 전극 구조체와 대향하는 제2 전극 구조체; 상기 제1 전극 구조체 및 상기 제2 전극 구조체 사이에 배치되는 전해질; 및상기 전해질 내에 순차적으로 적층되도록 배치되는 제1 내지 제3 물질층을 포함하되, 상기 제1 물질층은 제1 크기를 갖는 이산화 티타늄 입자들을 포함하고, 상기 제2 물질층은 상기 제1 크기보다 큰 제2 크기를 갖는 이산화 티타늄 입자들을 포함하고, 상기 제3 물질층은 상기 제2 크기보다 큰 제3 크기를 갖는 제9 항에 따른 광촉매를 포함하는 광전 변환 소자.