PVA 브러쉬 세정 방법 및 장치
Cleaning method for PVA brush and that apparatus thereof
특허 요약
PVA 브러쉬의 세정 방법이 제공된다. 상기 PVA 브러쉬의 세정 방법은, PVA 브러쉬를 준비하는 단계, 유기물을 포함하는 세정 용액으로 상기 PVA 브러쉬 내의 실록산(siloxane) 화합물을 제거하는 단계, 및 상기 PVA 브러쉬에 진동을 가하여, 상기 PVA 브러쉬 내의 불순물을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
청구항
번호청구항
1

PVA 브러쉬를 준비하는 단계; 유기물을 포함하는 세정 용액으로 상기 PVA 브러쉬 내의 실록산(siloxane) 화합물을 제거하는 단계; 및상기 PVA 브러쉬에 진동을 가하여, 상기 PVA 브러쉬 내의 불순물을 제거하는 단계를 포함하고,상기 PVA 브러쉬 내의 실록산(siloxane) 화합물을 제거하는 단계; 및상기 PVA 브러쉬에 진동을 가하여, 상기 PVA 브러쉬 내의 상기 불순물을 제거하는 단계를 유닛 공정(unit process)으로 정의하고, 상기 실록산 화합물 및 상기 불순물이 제거된 상기 PVA 브러쉬의 마찰 특성 및 탄성 특성을 측정하는 단계를 더 포함하되, 측정된 상기 PVA 브러쉬의 마찰 특성 및 탄성 특성이 기준 범위 이하인 경우, 상기 유닛 공정이 반복 수행되는 것을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

2

제1 항에 있어서, 상기 세정 용액은, 10 wt% 이상 50 wt% 미만의 농도를 갖는 상기 유기물을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

3

제1 항에 있어서, 상기 PVA 브러쉬에 진동을 가하여, 상기 PVA 브러쉬 내의 상기 불순물을 제거하는 단계는,상기 PVA 브러쉬에 10분의 시간 동안 진동을 가한 경우, 상기 PVA 브러쉬로부터 제거된 상기 불순물의 양이 최대값을 갖는 것을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

4

제1 항에 있어서, 상기 PVA 브러쉬 내의 상기 실록산 화합물 및 상기 불순물은, 동시에 제거되는 것을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

5

제1 항에 있어서, 상기 PVA 브러쉬 내의 상기 실록산 화합물 및 상기 불순물은, 상기 실록산 화합물이 제거된 후 상기 불순물이 제거되거나, 상기 불순물이 제거된 후 상기 실록산 화합물이 제거되는 것을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

6

제1 항에 있어서, 상기 유기물은, THF 또는 TMAH인 것을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

7

제1 항에 있어서, 상기 실록산 화합물은, PDMS인 것을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

8

삭제

9

제1 항에 있어서, 상기 PVA 브러쉬에 진동을 가하여, 상기 PVA 브러쉬 내의 상기 불순물을 제거하는 단계는,상기 진동이 전달된 PVA 브러쉬의 입자 형태의 불순물을 입자 측정기를 이용하여 측정하는 과정을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

10

제9 항에 있어서, 상기 입자 측정기는, 단일 입자 광학 측정법(SPOS, single particle optical sizing), 레이저 회절법(laser diffraction), 동적 광산란법(dynamic light scattering), 및 음향 감쇄 분광학법(acoustic attenuation spectroscopy) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 PVA 브러시의 세정 방법.

11

제1 항에 있어서, 상기 PVA 브러쉬에 진동을 가하여, 상기 PVA 브러쉬 내의 상기 불순물을 제거하는 단계는,상기 진동이 전달된 PVA 브러쉬의 유기성 형태의 불순물을 유기물 측정기를 이용하여 측정하는 과정을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

12

제11 항에 있어서, 상기 유기물 측정기는, 자외선 검출기(ultravilolet detector), 전도도 검출기(conductivity analyzer), 전류 충전 검출기(current charge detector), NDIR 검출기(nondispersive infrared gas analyzer) 및 총유기탄소분석기(total organic carbon analyzer) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 세정용 PVA 브러시의 세정 방법.

13

제1 항에 있어서, 상기 세정 용액은, 상기 PVA 브러쉬와의 RED 가 0 초과 1 미만의 범위를 갖는 상기 유기물을 포함하는 PVA 브러쉬의 세정 방법.

14

PVA 브러쉬 내의 실록산 화합물을 제거하는 유기물을 포함하는 세정 용액이 배치되는 세정 용기; 상기 PVA 브러쉬 내의 불순물을 제거하는 진동을, 상기 PVA 브러쉬로 제공하고, 상기 세정 용기 내에 배치되는 진동 장치; 상기 실록산 화합물 및 상기 불순물이 제거된 상기 PVA 브러쉬의 마찰 특성을 측정하고, 상기 세정 용기의 외부에 배치되는 마찰 측정 장치; 및 상기 실록산 화합물 및 상기 불순물이 제거된 상기 PVA 브러쉬의 탄성 특성을 측정하고, 상기 세정 용기의 외부에 배치되는 탄성 측정 장치를 포함하는 PVA 브러쉬 세정 장치.

15

제14 항에 있어서, 상기 유기물은, THF 또는 TMAH이고, 상기 세정 용액은, 10 wt% 이상 50 wt% 미만의 농도를 갖는 상기 유기물을 포함하는 PVA 브러쉬 세정 장치.

16

제14 항에 있어서, 상기 진동 장치가 10분의 시간 동안 상기 PVA 브러쉬에 진동을 제공하는 경우, 상기 PVA 브러쉬로부터 제거된 상기 불순물의 양이 최대값을 갖는 것을 포함하는 PVA 브러쉬 세정 장치.

17

제14 항에 있어서, 상기 실록산 화합물은, PDMS인 것을 포함하는 PVA 브러쉬 세정 장치.