제1항 또는 제2항의 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법에 의해 표면이 초소수화된 구리 기재.

구리(Cu) 기재를 할로겐 이온을 포함하는 수용액으로 식각하여 마이크로 테라스 구조를 형성하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 마이크로 테라스 구조가 표면에 형성된 구리 기재를 과황산염 및 수산화기를 포함하는 수용액으로 처리하여 마이크로 테라스 구조상에 나노 잎 구조가 유도된 계층구조를 형성하는 단계(단계 2);를 포함하며,상기 할로겐 이온을 포함하는 수용액은 불화나트륨(NaF), 염화나트륨(NaCl) 및 브롬화나트륨(NaBr)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 할로겐화 염이 용해된 수용액인 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

구리(Cu) 기재를 할로겐 이온을 포함하는 수용액으로 식각하여 마이크로 테라스 구조를 형성하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 마이크로 테라스 구조가 표면에 형성된 구리 기재를 과황산염 및 수산화기를 포함하는 수용액으로 처리하여 마이크로 테라스 구조상에 나노 잎 구조가 유도된 계층구조를 형성하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2의 구리 기재 표면을 불소계 화합물로 표면개질하는 단계(단계 3);를 포함하며,상기 할로겐 이온을 포함하는 수용액은 불화나트륨(NaF), 염화나트륨(NaCl) 및 브롬화나트륨(NaBr)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 할로겐화 염이 용해된 수용액인 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단계 1의 수행 전, 구리기재를 산성용액에 침지하여 구리 기재의 산화층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단계 1의 식각은 90 내지 110 ℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단계 1의 식각은 15 내지 25시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단계 2의 과황산염을 포함하는 수용액은 과황산암모늄, 과황산나트륨 및 과황산칼륨으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 과황산염이 용해된 수용액인 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단계 2의 수산화기를 포함하는 수용액은 NaOH 및 KOH로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 수산화기가 용해된 수용액인 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단계 2의 잎 구조 유도는 5분 내지 25분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

제2항에 있어서, 상기 단계 3의 불소계 화합물은 트라이클로로(1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥틸)실란{trichloro(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane}, 트리클로로(3,3,3-트라이플루오로프로필)실란{trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane}, 트라이클로로(1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데실)실란{trichloro(1H,1H,2H,2Hperfluorodecyl)silane}, 트라이플루오로프로필-트라이메톡시실란(trifluoropropyl-triethoxysilane), 트라이플루오로프로필-트라이에톡시실란(trifluoropropyl-triethoxysilane), 트라이데카플루오로옥틸-트라이메톡시실란(tridecafluorooctyl-trimethoxysilane), 트라이데카플루오로옥틸-트라이에톡시실란(tridecafluorooctyl-triethoxysilane), 헵타데카플루오로데실-트라이메톡시실란(heptadecagluorodecyl-trimethoxysilane) 및 헵타데카플루오로데실-트라이에톡시실란(heptadecafluorodecyl-triethoxysilane)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법.

제2항에 있어서,상기 단계 3의 수행 후, 불소계 화합물로 개질된 구리 기재를 190℃ 내지 210℃에서 0.5시간 내지 2시간 동안 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 초소수성 구리 기재 표면의 가공방법