프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법 및 이로 제조된 습식 CNT 박막
FREESTANDING WET CNT THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND WET CNT THIN FILM PRODUCED THEREBY
특허 요약
본 발명의 일 실시예는 극자외선 리소그래피용 펠리클을 구성하는 CNT 재료의 습식 박막을 제조하기 위해 수직 들어올리기 방법을 사용하여 제작 비용 및 시간을 절감할 수 있는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법 및 이로 제조된 습식 CNT 박막을 제공하는 것이다.
청구항
번호청구항
1

기판 상에 CNT박막을 형성하는 단계;상기 CNT박막이 형성된 기판을 용매에 침지하여 상기 기판을 제거하는 단계;상기 용매에 마스크프레임을 넣어 상기 CNT박막을 상기 마스크프레임 상에 위치시키는 단계; 및상기 마스크프레임을 수직 들어올리기 방법으로 상기 CNT 박막과 함께 상기 용매에서 건져내고 건조하여 습식 CNT 박막을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

2

제 1항에 있어서,상기 수직 들어올리기 방법은 상기 마스크프레임을 수평면 기준 30도 내지 90도 기울여 들어올리는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

3

제 1항에 있어서,상기 기판은 PC(Polycarbonate), PET(Polyester), PEN(Polyethylene Naphthalate), OPP(Poly propylene), CPP(Casting polypropylene), PI(Polyimide), PS(Polystyrene) 및 PE(Polyethylene) 로 구성된 군에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

4

제 1항에 있어서,상기 용매는 THF(tetrahydrofuran), DMF(N,N-dimethyl formamide), DMSO(Dimethylsulfoxide), MeCN (acetonitrile), HFIP(Hexafluoro-2-propanol) DIPEA(N,N-Diisopropylethylamine) CHCL(Chloroform)로 구성된 군에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

5

제 1항에 있어서,상기 CNT 박막의 두께는 5 nm내지 50 μm인 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

6

제 1항에 있어서,상기 기판 상에 CNT박막을 형성하는 단계에서,상기 CNT 박막은 스프레이코팅, 스핀코팅, 딥코팅 및 롤코팅으로 구성된 군에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

7

제 1항에 있어서,상기 CNT 박막은 Single-walled carbon nanotube(SWCNT) 및 Multi-walled carbon nanotube(MWCNT)로 구성된 군에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

8

제 1항에 있어서,상기 마스크프레임은 Metal 마스크, Quartz 마스크 및 소다라임(유리) 마스크로 구성된 군에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

9

제 1항에 있어서,상기 습식 CNT 박막을 제조하는 단계에서,상기 용매에서 건져낸 상기 습식 CNT 박막을 건조하여 용매를 증발시키는 것으로 상기 마스크프레임 및 상기 습식 CNT 박막이 접착되는 것을 특징으로 하는 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법.

10

제 1항의 프리스탠딩 습식 CNT 박막 제조방법에 따라 제조된 습식 CNT 박막.