| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 탄소나노튜브; 및상기 탄소나노튜브 표면에 결합된 비중합 도파민을 포함하고,상기 탄소나노튜브는 15nm 내지 550nm의 길이를 가지며,전체 중량 대비 상기 탄소나노튜브의 함량은 0.1 내지 20wt.%인, 고내식성 코팅 재료. |
| 2 | 제1항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 표면 및 말단 중 적어도 한 부위에 카복실기(-COOH) 및 하이드록시기(-OH) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,고내식성 코팅 재료. |
| 3 | 제2항에 있어서,상기 도파민과 상기 탄소나노튜브는 아마이드를 형성하여 결합된 것을 특징으로 하는,고내식성 코팅 재료. |
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| 6 | 탄소나노튜브를 산처리하여 상기 탄소나노튜브 표면에 카복실기(-COOH) 및 하이드록시기(-OH) 중 적어도 어느 하나를 형성하는 단계; 상기 카복실기 중 적어도 일부를 염화시켜 아실클로라이드 작용기(-COCl)를 형성하는 단계;상기 아실클로라이드 작용기의 적어도 일부와 도파민의 아미노기의 반응으로 상기 도파민을 상기 탄소나노튜브 표면에 결합시켜 비중합 도파민 개질 탄소나노튜브를 형성하는 단계; 및초음파처리에 의해 상기 도파민 개질 탄소나노튜브를 절단하는 단계를 포함하고,상기 절단된 탄소나노튜브는 15nm 내지 550nm의 길이를 가지며,전체 중량 대비 상기 탄소나노튜브의 함량은 0.1 내지 20wt.%인, 고내식성 코팅 재료 제조방법. |
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| 9 | 제6항에 있어서,상기 초음파처리에 의해 상기 도파민 개질 탄소나노튜브의 표면 및 말단 중 적어도 한 부위에 카복실기가 추가로 형성되는 것을 특징으로 하는,고내식성 코팅 재료 제조방법. |
| 10 | 제9항에 있어서,상기 초음파처리는 1시간 내지 6시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는,고내식성 코팅 재료 제조방법. |
| 11 | 제6항에 있어서,상기 산처리는 황산 및 질산을 적어도 하나 포함하여 수행되는 것을 특징으로 하는,고내식성 코팅 재료 제조방법. |
| 12 | 철을 함유하는 탄소강으로 형성된 기재;상기 기재의 표면을 코팅하고, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항의 고내식성 코팅 재료로 형성된 코팅층을 포함하는,고내식성 코팅 재료가 코팅된 탄소강. |
| 13 | 제12항에 있어서,상기 코팅층은 40 내지 60nm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는,고내식성 코팅 재료가 코팅된 탄소강. |
