| 번호 | 청구항 |
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| 4 | 제 1항에 있어서, 기판은 실리콘 웨이퍼, 화합물 반도체 웨이퍼, 석영, 유리 또는 세라믹 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 고강도 솔더 범프 제조 방법. |
| 5 | 제 1항에 있어서, 솔더는 순수한 주석 또는 융점 350 ℃ 이하인 주석 합금으로 선택되는 것을 특징으로 하는 고강도 솔더 범프 제조 방법. |
| 6 | 제 1항 또는 제 5항에 있어서, 범프상에 솔더를 도금 방법 또는 솔더 페이스트를 스크린 프린트법으로 도포함을 특징으로 하는 고강도 솔더 범프 제조 방법. |
| 2 | 제 1항에 있어서, 미니 범프 형성은 전해 도금 또는 무전해 도금법을 이용하여 구리, 니켈, 니켈-납 또는 금으로 형성하는 것을 특징으로 하는 고강도 솔더 범프 제조 방법. |
| 3 | 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 미니 범프의 높이는 10 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 고강도 솔더 범프 제조 방법. |
| 1 | (a) 기판상에 전도성 박막을 형성하는 단계;(b) 전도성 박막 위에 절연층을 형성하는 단계;(c) 포토레지스트 또는 드라이필름을 도포하고 패터닝하는 단계;(d) 절연층을 식각하고 포토레지스트 또는 드라이필름를 제거하는 단계;(e) 미니 범프를 형성하는 단계; 및(f) 솔더 범프를 형성하기 위하여 솔더를 리플로우하는 단계를 포함하는 고강도 솔더 범프 제조 방법. |