| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 20 | 제 1 항, 제 2 항 및 제 5 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항의 자외선 차단성 접착제 조성물을 이용하여 형성된, 자외선 차단성 접착 필름. |
| 1 | 열 활성 지연 형광(thermally activated delayed fluorescence, TADF) 성질을 갖는 광촉매;공개시제(co-initiator); 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 단량체; 및자외선 흡수제를 포함하는, 자외선 차단성 접착제 조성물로서,상기 광촉매가 하기 화학식 1로 표시되는, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 1]상기 화학식 1에서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소, 중수소, 할로젠 원자, 니트로기(-NO2), 시아노기(-CN), -COOR(R은 수소 또는 C1-C24 알킬), 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬(alkyl), C2-C24 알케닐(alkenyl), C2-C24 알키닐(alkynyl), C1-C24 알콕시(alkoxy) 또는 C4-C18 아릴(aryl)이거나; 또는 서로 연결되어 치환 또는 비치환된 카바졸(carbazole) 구조를 형성하고,X는 F, Cl, Br 및 I로 구성된 군에서 선택되는 할로젠 원자이며, n은 1 또는 2이고, m은 3 내지 5의 정수이며, l은 0 또는 1 이고, n+m+l은 4 내지 6의 정수이다. |
| 2 | 제 1 항에 있어서,상기 광촉매가 400 내지 800nm 파장 영역의 광을 흡수하는, 자외선 차단성 접착제 조성물. |
| 3 | 삭제 |
| 4 | 삭제 |
| 5 | 제 1 항에 있어서,상기 광촉매가 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되는, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 2][화학식 3]상기 화학식 2에서, X1 내지 X10은, 각각 독립적으로, 수소, 중수소, 할로젠 원자, -NO2, -CN, -COOR(R은 수소 또는 C1-C24 알킬), 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬(alkyl), C2-C24 알케닐(alkenyl), C2-C24 알키닐(alkynyl), C1-C24 알콕시(alkoxy) 또는 C4-C18 아릴(aryl)이고,상기 화학식 3에서, X1 내지 X8은, 각각 독립적으로, 수소, 중수소, 할로젠 원자, -NO2, -CN, -COOR(R은 수소 또는 C1-C24 알킬), 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬(alkyl), C2-C24 알케닐(alkenyl), C2-C24 알키닐(alkynyl), C1-C24 알콕시(alkoxy) 또는 C4-C18 아릴(aryl)이고,상기 화학식 2 및 3에서, 각각 독립적으로, X는 F, Cl, Br 및 I로 구성된 군에서 선택되는 할로젠 원자이며, n은 1 또는 2이고, m은 3 내지 5의 정수이며, l은 0 또는 1 이고, n+m+l은 4 내지 6의 정수이다. |
| 6 | 제 1 항에 있어서,상기 공개시제가,음이온성 보레이트염 화합물 또는 아민 화합물을 포함하는 공개시제 I; 및 양이온성 염 화합물 또는 알킬 할라이드를 포함하는 공개시제 II를 포함하는, 자외선 차단성 접착제 조성물. |
| 7 | 제 6 항에 있어서,상기 보레이트염 화합물이 하기 화학식 4로 표시되는, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 4]상기 화학식 4에서, R3는 C1-C24 알킬 또는 -CH2SiR'3 (R'은 수소 또는 C1-C24 알킬)이고,Ar1 내지 Ar3는, 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C4-C18 아릴이며,Z+는 Li+, K+, Na+, Rb+, 또는 치환 또는 비치환된 사프라닌(safranin) 이온, 피릴륨(pyrylium) 이온, 시아닌(cyanine) 이온, 아이오도늄(iodonium) 이온, 설포늄(sulfonium) 이온, 포스포늄(phosphonium) 이온 또는 암모늄(ammonium) 이온이다. |
| 19 | 제 17 항에 있어서,제조된 수지를 기판 상에 도포한 후 가시광을 추가적으로 조사하는 단계를 더 포함하는, 접착제 수지의 제조방법. |
| 8 | 제 6 항에 있어서,상기 보레이트염 화합물이 하기 화학식 5로 표시되는, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 5]상기 화학식 5에서, R3는 C1-C24 알킬 또는 -CH2SiR'3 (R'은 수소 또는 C1-C24 알킬)이고,X'1 내지 X'15는, 각각 독립적으로, 수소, 중수소, 할로젠 원자, -NO2, -CN, -COOR, -NRCOCH3, -SR, -COONHxR2-x, NHxR2-x, 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬(alkyl), C2-C24 알케닐(alkenyl), C2-C24 알키닐(alkynyl), C1-C24 알콕시(alkoxy) 또는 C4-C18 아릴(aryl)이고, R은 수소 또는 C1-C24 알킬이며, x는 0 내지 2의 정수이고,Z+는 Li+, K+, Na+, Rb+, 또는 치환 또는 비치환된 사프라닌(safranin) 이온, 피릴륨(pyrylium) 이온, 시아닌(cyanine) 이온, 아이오도늄(iodonium) 이온, 설포늄(sulfonium) 이온, 포스포늄(phosphonium) 이온 또는 암모늄(ammonium) 이온이다. |
| 9 | 제 6 항에 있어서,상기 아민 화합물이 하기 화학식 6으로 표시되는, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 6]상기 화학식 6에서, R4, R5 및 R6은, 각각 독립적으로, 수소, 중수소, NHxR2-x, -OR, -COR, -COOR, 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬(alkyl), C2-C24 알케닐(alkenyl), C2-C24 알키닐(alkynyl), C1-C24 알콕시(alkoxy) 또는 C4-C18 아릴(aryl)이며, R은 수소 또는 C1-C24 알킬이고, x는 0 내지 2의 정수이다. |
| 10 | 제 6 항에 있어서,상기 양이온성 염 화합물이 아이오도늄염, 설포늄염 및 포스포늄염으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물인, 자외선 차단성 접착제 조성물. |
| 11 | 제 6 항에 있어서,상기 양이온성 염 화합물이 하기 화학식 7로 표시되는 아이오도늄염 화합물인, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 7]상기 화학식 7에서, Ar4 및 Ar5는, 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C4-C18 아릴이며,Z-는 PF6-, SbF6-, AsF6-, BF4-, (C6F5)4B-, Cl-, Br-, HSO4-, CF3SO3-, FSO3-, CH3SO3-, ClO4-, PO4-, NO3-, SO4-, CH3SO4-, 또는 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬설포네이트, C2-C20 할로알킬설포네이트, C4-C10 아릴설포네이트, 캄포설포네이트(camphorsulfonate), C1-C20 퍼플루오로알킬설포닐메타이드 또는 C1-C20 퍼플루오로알킬설포닐이미드 이온이다. |
| 12 | 제 6 항에 있어서,상기 양이온성 염 화합물이 하기 화학식 8로 표시되는 설포늄염 화합물인, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 8]상기 화학식 8에서, Ar6 내지 Ar8은, 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C4-C18 아릴이며,Z-는 PF6-, SbF6-, AsF6-, BF4-, (C6F5)4B-, Cl-, Br-, HSO4-, CF3SO3-, FSO3-, CH3SO3-, ClO4-, PO4-, NO3-, SO4-, CH3SO4-, 또는 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬설포네이트, C2-C20 할로알킬설포네이트, C4-C10 아릴설포네이트, 캄포설포네이트(camphorsulfonate), C1-C20 퍼플루오로알킬설포닐메타이드 또는 C1-C20 퍼플루오로알킬설포닐이미드 이온이다. |
| 13 | 제 6 항에 있어서,상기 양이온성 염 화합물이 하기 화학식 9로 표시되는 포스포늄염 화합물인, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 9]상기 화학식 9에서,R7은 수소, 중수소, 할로젠 원자, -NO2, -CN, -COOR, -NRCOCH3, -SR, -COONHxR2-x, NHxR2-x, 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬(alkyl), C2-C24 알케닐(alkenyl), C2-C24 알키닐(alkynyl), C1-C24 알콕시(alkoxy) 또는 C4-C18 아릴(aryl)이며, R은 수소 또는 C1-C24 알킬이고, x는 0 내지 2의 정수이며,Ar9 내지 Ar11은, 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C4-C18 아릴이고,Z-는 PF6-, SbF6-, AsF6-, BF4-, (C6F5)4B-, Cl-, Br-, HSO4-, CF3SO3-, FSO3-, CH3SO3-, ClO4-, PO4-, NO3-, SO4-, CH3SO4-, 또는 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬설포네이트, C2-C20 할로알킬설포네이트, C4-C10 아릴설포네이트, 캄포설포네이트(camphorsulfonate), C1-C20 퍼플루오로알킬설포닐메타이드 또는 C1-C20 퍼플루오로알킬설포닐이미드 이온이다. |
| 14 | 제 6 항에 있어서,상기 알킬 할라이드가 하기 화학식 13으로 표시되는, 자외선 차단성 접착제 조성물:[화학식 13]상기 화학식 13에서, R9, R10 및 R11은, 각각 독립적으로, 수소, 중수소, -OR", -COR", -COOR", 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬(alkyl), C2-C24 알케닐(alkenyl), C2-C24 알키닐(alkynyl), C1-C24 알콕시(alkoxy) 또는 C4-C18 아릴(aryl)이며, R"은 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1-C24 알킬, C2-C24 알케닐, C2-C24 알키닐 또는 C6-C18 아릴이고, X는 F, Cl, Br 및 I로 구성된 군에서 선택되는 할로젠 원자이다. |
| 15 | 제 1 항에 있어서,상기 자외선 흡수제가 280 내지 400nm 파장 영역의 광을 흡수하는, 자외선 차단성 접착제 조성물. |
| 16 | 제 1 항에 있어서,상기 자외선 흡수제가 하이드록시벤조페논(hydroxyl benzophenone)계 화합물; 벤조트리아졸(benzotriazole)계 화합물; 다이아제닐(diazenyl)계 화합물; 힌더드 아민(hindered amines)계 화합물; 철, 니켈, 및 코발트로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 금속을 포함하는 유기 금속 화합물; 살리실레이트(salicylate)계 화합물; 시나메이트(cinnamate)계 유도체; 레조시놀 모노벤조에이트(resorcinol monobenzoates)계 화합물; 옥사닐라이드(oxanilides)계 화합물; 하이드록시벤조에이트(hydroxybenzoates)계 화합물; 유기 또는 무기 안료(pigment); 카본블랙; 쿠마린(coumarines)계 화합물; 스틸벤유도체; 벤즈옥사졸릴계 화합물; 벤즈이미다졸릴계 화합물; 나프틸이미드계 화합물; 디아미노스틸벤설포네이트계 화합물; 트리아진 스틸벤계 화합물; 페닐에스테르계 화합물; S-트리아진(triazine)계 화합물; 벤즈옥사졸계 화합물의 히드록시페닐 유도체; 헥사메틸포스포릭트리아미드계 화합물; 벤질리덴말로네이트계 화합물; 알리파틱아민 또는 아미노 알코올계 유도체; 니트로방향족 화합물; 치환된 아크릴로니트릴계 화합물; 페로센계 화합물; 니트로페닐아조페놀계 화합물; 아조계 화합물; 폴리엔계 고분자유도체; 피페리딘계 화합물; 피페리딘옥시계 화합물; 보론트리플루오라이드계 화합물; 티아디아졸계 화합물; 및 포스포네이트계 화합물로 구성된 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 자외선 차단성 접착제 조성물. |
| 17 | 제 1 항, 제 2 항 및 제 5 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항의 자외선 차단성 접착제 조성물에 가시광을 조사하여 중합성 단량체를 중합시켜 접착제 수지를 제조하는 단계를 포함하는, 접착제 수지의 제조방법. |
| 18 | 제 17 항에 있어서,상기 가시광 조사가 1초 내지 1시간 동안 수행되는, 접착제 수지의 제조방법. |