| 번호 | 청구항 |
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| 2 | 청구항 1에 있어서, 상대적으로 긴 크로스오버 거리를 지닌 DNA 가닥에 상기 염기쌍을 삽입 또는 결실시킴으로써 상기 DNA 오리가미 나노 구조체에 상대적으로 작은 비틀림을 발생하게 하는, 방법. |
| 1 | DNA 오리가미 나노 구조체의 크로스오버 거리를 기준으로 염기쌍이 삽입 또는 결실되는 단위 블록 내 DNA 가닥을 선택하는 단계; 및상기 단위 블록에 하나 이상의 염기쌍을 삽입 또는 결실시키는 단계를 포함하고,상기 크로스오버 거리는 DNA 오리가미 나노 구조체에서 인접한 두 개의 크로스오버 사이의 복수개의 연속된 염기쌍의 길이를 의미하고, 상기 단위 블록은, 상기 DNA 오리가미 나노 구조체의 길이방향을 따라 나타나는 크로스오버 패턴의 최소 반복 단위로서, 서로 다른 복수개의 크로스오버 거리를 지닌 DNA 가닥을 포함하는, DNA 오리가미 나노 구조체의 비틀림을 조절하는 방법. |
| 3 | 청구항 1에 있어서, 상대적으로 짧은 크로스오버 거리를 지닌 DNA 가닥에 상기 염기쌍을 삽입 또는 결실시킴으로써 상기 DNA 오리가미 나노 구조체에 상대적으로 큰 비틀림을 발생하게 하는, 방법. |
| 4 | 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서, 스캐폴드 DNA에서 스테이플 DNA 가닥과 쌍을 이루지 않는 하나 이상의 뉴클레오티드를 도입하는 단계를 더 포함하는, 방법. |
| 5 | 청구항 4에 있어서, 스캐폴드 DNA에서 스테이플 DNA 가닥과 쌍을 이루지 않는 하나 이상의 뉴클레오티드를 도입하여 상기 DNA 오리가미 나노 구조체의 비틀림을 작게 하는, 방법. |
| 6 | DNA 오리가미 나노 구조체의 크로스오버 거리를 기준으로 염기쌍이 삽입 또는 결실되는 단위 블록 내 DNA 가닥을 선택하는 단계; 및상기 단위 블록에 삽입 또는 결실되는 염기쌍 수의 변화 없이, 하나 이상의 염기쌍을 삽입 또는 결실시켜 염기쌍이 삽입 또는 결실된 서로 다른 크로스오버 거리를 가진 DNA 가닥의 비를 조절하는 단계를 포함하고,상기 크로스오버 거리는 DNA 오리가미 나노 구조체에서 인접한 두 개의 크로스오버 사이의 복수개의 연속된 염기쌍의 길이를 의미하고,상기 단위 블록은, 상기 DNA 오리가미 나노 구조체의 길이방향을 따라 나타나는 크로스오버 패턴의 최소 반복 단위로서, 서로 다른 복수개의 크로스오버 거리를 지닌 DNA 가닥을 포함하는, DNA 오리가미 나노 구조체의 비틀림을 조절하는 방법. |
| 7 | 청구항 6에 있어서, 하나 이상의 염기 쌍이 삽입된 상대적으로 긴 크로스오버 거리를 지닌 DNA 가닥에 대한, 하나 이상의 염기 쌍이 삽입된 상대적으로 짧은 크로스오버 거리를 지닌 DNA 가닥의 비가 커질수록 상기 DNA 오리가미 나노 구조체의 비틀림이 증가되는, 방법. |
| 8 | 청구항 6 또는 7에 있어서, 스캐폴드 DNA에서 스테이플 DNA 가닥과 쌍을 이루지 않는 하나 이상의 뉴클레오티드를 도입하는 단계를 더 포함하는, 방법. |
| 9 | 청구항 8에 있어서, 스캐폴드 DNA에서 스테이플 DNA 가닥과 쌍을 이루지 않는 하나 이상의 뉴클레오티드를 도입하여 상기 DNA 오리가미 나노 구조체의 비틀림을 작게 하는, 방법. |
