| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 무기물 나노입자를 포함하는 염료감응 태양전지용 광전극으로서, 상기 광전극의 표면에 3차원 구조의 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극. |
| 2 | 제1항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 규칙 형태인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극. |
| 3 | 제1항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 불규칙 형태인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극. |
| 4 | 제2항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 렌즈형, 원통형, 프리즘형, 피라미드형 또는 역피라미드형인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극. |
| 5 | 제3항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 피라미드형인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극. |
| 6 | 제1항에 있어서, 상기 무기물 나노입자는 TiO2, ZnO, SnO2, WO3, CdSe, CdS 및 GaAs로 구성된 군에서 선택되는 하나 또는 그 이상인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극. |
| 7 | 제1항에 있어서, 상기 무기물 나노입자의 직경은 5~100 ㎚인 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지용 광전극. |
| 8 | 제1항 내지 7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광전극은 그 위에 산란층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극. |
| 9 | (1) 3차원 구조의 패턴의 몰드를 제작하는 단계; (2) 무기물 나노입자 페이스트를 전도성 기판 위에 코팅하는 단계; (3) 상기 3차원 구조의 패턴의 몰드를 상기 코팅된 무기물 나노입자 페이스트 위에 임프린팅 하는 단계; (4) 상기 3차원 구조의 패턴의 몰드-무기물 나노입자 페이스트를 20 ~ 100 ℃ 온도에서 어닐링 하여 3차원 구조의 나노입자층을 형성시키는 단계; (5) 상기 3차원 구조의 패턴의 몰드를 상기 3차원 구조의 나노입자층으로부터 제거하는 단계; 및 (6) 상기 3차원 구조의 나노입자층을 약 200 ℃ 이상의 온도에서 처리하는 단계를 포함하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 10 | 제9항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 규칙 형태인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 11 | 제9항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 불규칙 형태인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 12 | 제10항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 렌즈형, 원통형, 프리즘형, 피라미드형 또는 역피라미드형인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 13 | 제11항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴은 피라미드형인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 14 | 제12항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴이 렌즈형 또는 원통형인 경우에, 상기 3차원 구조의 패턴의 몰드는 노광 공정으로 제조되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조방법. |
| 15 | 제12항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴이 프리즘형, 피라미드형, 또는 역피라미드형인 경우에, 상기 3차원 구조의 패턴의 몰드는 마이크로 머시닝 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조방법. |
| 16 | 제11항에 있어서, 상기 3차원 구조의 패턴의 몰드는 습식 식각 공정으로 제조되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 17 | 제9항에 있어서, 상기 무기물 나노입자 페이스트는 TiO2, ZnO, SnO2, WO3, CdSe, CdS 및 GaAs로 구성된 군에서 선택되는 하나 또는 그 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 18 | 제9항에 있어서, 상기 무기물 나노입자의 직경은 5~100 ㎛인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 19 | 제9항에 있어서, (6) 단계 이후에 상기 광전극 위에 산란층을 추가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 20 | 제19항에 있어서, 상기 산란층을 추가하는 단계는, 상기 3차원 구조의 나노입자층 위에 무기물 나노입자 페이스트를 코팅하는 단계; 및 상기 무기물 나노입자 페이스트가 코팅된 3차원 구조의 나노입자층을 고온에서 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법. |
| 21 | 제9항 내지 제20항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조되는 염료감응 태양전지용 3차원 구조의 광전극. |
| 22 | 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지. |
| 23 | 제21항에 따른 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지. |