| 번호 | 청구항 |
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| 4 | 제1 항에 있어서, 상기 그래파이트화 촉매막 및 상기 그래핀막의 적층 구조물은 10 Ω/□ 내지 50 Ω/□ 범위의 면저항을 가지는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 5 | 제1 항에 있어서, 상기 그래파이트화 촉매막은 가열에 의해 비정질 탄소를 결정화시킬 수 있는 물질인 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 1 | 기판 상에 비정질 탄소막을 형성하는 단계;상기 비정질 탄소막 상에 그래파이트화 촉매막을 형성하는 단계; 및상기 비정질 탄소막이 결정화되어 상기 그래파이트화 촉매막 상에 그래핀막이 형성되도록, 상기 비정질 탄소막 및 상기 그래파이트화 촉매막을 열처리하는 단계;를 포함하고,상기 열처리하는 단계에 의하여, 상기 그래파이트화 촉매막이 응집(agglomeration)되어 그래파이트화 촉매 파티클이 형성되는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 2 | 삭제 |
| 3 | 제1 항에 있어서, 상기 그래파이트화 촉매막 및 상기 그래핀막의 적층 구조물은 80 % 이상의 투과도를 가지는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 6 | 제1 항에 있어서, 상기 그래파이트화 촉매막은 니켈(Ni), 구리(Cu), 코발트(Co), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir), 철(Fe), 백금(Pt), 팔라듐(Pt) 및 로듐(Rh)으로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 금속 또는 금속 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 7 | 제1 항에 있어서,상기 비정질 탄소막을 형성하는 단계 이전에,상기 기판 상에 상기 그래파이트화 촉매막을 형성하는 단계; 및상기 그래파이트화 촉매막을 열처리하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 8 | 제1 항에 있어서,상기 열처리하는 단계 이후에,상기 기판을 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 9 | 제1 항에 있어서,상기 열처리하는 단계 이후에,상기 그래파이트 촉매막을 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법. |
| 10 | 삭제 |
| 11 | 제1 항, 및 제3 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 따른 상기 그래파이트화 촉매 파티클 및 상기 그래핀막을 포함하는 그래핀 구조. |
| 12 | 제1 항, 및 제3 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 따른 상기 그래파이트화 촉매 파티클 및 상기 그래핀막을 포함하는 투명 전극. |
