기체분리를 위한 분리막의 제조방법에 있어서,지지체 상에서 아민 단량체를 포함하는 제1용액 및 아실클로라이드 단량체를 포함하는 제2용액을 계면중합하여 폴리아미드층을 포함하는 선택층을 형성하는 단계; 및상기 계면중합 후에 잔여용액을 제거하는 단계를 포함하며,상기 계면중합은, 상기 잔여용액 제거 전의 선택층의 분획분자량이 86.0 내지 91.0g/mol이 되도록 수행되는 제조방법.

제1항에 있어서,상기 계면중합은, 상기 잔여용액 제거 전의 선택층의 수소/이산화탄소 선택도가 25.0 내지 35.0이 되도록 수행되는 제조방법.

제2항에 있어서,상기 계면중합은, 상기 잔여용액 제거 전의 선택층의 자유 부피 기공 반지름이 0.310 내지 0.316이 되도록 수행되는 제조방법.

제3항에 있어서,상기 계면중합은, 40분 내지 180분 동안 수행되는 제조방법.

제3항에 있어서,상기 잔여용액의 제거는 Hansen solubility parameter가 20 내지 50인 후처리용매를 사용하여 수행되는 제조방법.

제3항에 있어서,상기 후처리용매는 이소프로판올을 포함하며,상기 잔여용액의 제거에 의해 상기 선택층의 자유 부피 기공 반지름이 증가하는 제조방법.

제6항에 있어서,상기 잔여용액의 제거에 의해 상기 선택층의 자유 부피 기공 반지름은 0.5% 내지 2.5% 증가하는 제조방법.

제5항에 있어서,상기 잔여용액의 제거에 의해 상기 선택층의 질소 함량이 10% 내지 30% 낮아지는 제조방법.

제8항에 있어서,상기 잔여용액의 제거에 의해 상기 선택층의 수소/이산화탄소 선택도는 15% 내지 30% 감소하는 제조방법.

제8항에 있어서,상기 잔여용액의 제거에 의해 상기 선택층의 반치전폭(FWHM)은 65% 내지 80% 감소하는 제조방법.

제8항에 있어서,상기 아민 단량체는 m-페닐렌 디아민(m-phenylene diamine, MPD), o-페닐렌 디아민(o-phenylene diamine, OPD), p-페닐렌 디아민(p-phenylene diamine, PPD), 피페라진(piperazine), m-자일렌 디아민(m-xylenediamine, MXDA), m-자일릴렌디아민(m-xylylenediamine, MXD), 에틸렌 디아민(ethylenediamine), 트리메틸렌디아민(trimethylenediamine), 헥사메틸렌 디아민(haxamethylenediamine), 디에틸렌 트리아민(diethylene triamine, DETA), 트리에틸렌 테트라민(triethylene tetramine, TETA), 메탄 디아민(methane diamine, MDA), 이소포론디아민(isophoroediamine, IPDA), 트리에탄올아민(triethanolamine), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine), 메틸 디에탄올아민(methyl diethanolamine), 하이드록시알킬아민(hydroxyakylamine), 하이드로퀴논(hydroquinone), 레소시놀(resorcinol), 카테콜(catechol), 에틸렌글리콜(ethylene glycol), 글리세린(glycerine), 폴리바이닐알코올(polyvinyl alcohol), 4,4'-비페놀(4,4'-biphenol), 메틸렌 디페닐 디이소시아네이트(methylene diphenyl diisocyanate), m-페닐렌 디이소시아네이트(m-phenylene diisocyanate), p-페닐렌 디이소시아네이트(p-phenylene diisocyanate) 및 톨루엔 디이소시아네이트(toluene diisocyanate) 중 적어도 하나를 포함하고,상기 아실클로라이드 단량체는 트리메조일 클로라이드(trimesoyl chloride, TMC), 테레프탈로일 클로라이드(terephthaloyl chloride), 이소프탈로일 클로라이드(isophthaloyl chloride), 시클로헥산-1,3,5-트리카보닐 클로라이드(cyclohexane-1,3,5-tricarbonyl chloride), 5-이소시아네이토이소프탈로일 클로라이드(5-isocyanato-isophthaloyl chloride), 시아누릭 클로라이드(cyanuric chloride), 트리멜리토일 클로라이드(trimellitoyl chloride), 포스포릴 클로라이드(phosphoryl chloride) 및 글루타알데하이드(gluraraldehyde) 중 적어도 하나를 포함하는 제조방법.

제8항에 있어서,상기 지지체는 10 내지 3,000 nm의 공극 크기 분포를 가지는 다공성 지지체이며, 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리프로필렌(Polypropylene), 폴리염화비닐(Polyvinyl Chloride), 폴리스티렌(Polystyrene), 폴리아미드(Polyamide), 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene), 폴리아크릴로니트릴(Polyacrylonitrile), 폴리이미드(Polyimide), 폴리설폰(Polysulfone), 폴리이서설폰(Polyethersulfone) 및 폴리비닐리덴 플루오라이드(Polyvinyliden Fluoride), 셀룰로오스 아세테이트(Cellulose Acetate)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 수지로부터 형성되는 제조방법.

혼합기체의 분리를 위한 분리막에 있어서,지지체; 및상기 지지체 상에 형성되어 있으며, 아민 단량체를 포함하는 제1용액 및 아실클로라이드 단량체를 포함하는 제2용액을 계면중합하여 얻은 폴리아미드층을 포함하는 선택층을 포함하며,상기 선택층은,자유 부피 기공 반지름이 0.314 내지 0.320nm이고, 질소원소 함량은 원자비로 9.00 내지 11.30%이고,반치전폭은 0.050 내지 0.080인 분리막.

제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따라 제조된 분리막.

기체의 분리 방법에 있어서,제14항에 따른 분리막을 이용하여 C3H6/C3H8, C2H4/C2H6, CO2/CH4, CO2/CO, CO2/N2, N2/CH4, 및 n-C4/i-C4(n-butane/iso-butane), H2/CO2, H2/CH4, H2/C3H8 및 H2/C3H6 중 어느 하나의 기체 세트의 혼합 기체를 분리하는 방법.