투명 기판; 및상기 투명 기판 상에 배치된 고굴절율 화합물층으로써 n1의 굴절율을 갖는 제1 코팅층; 및 상기 제1 코팅층 상에 배치된 저굴절율 화합물층으로써 n2의 굴절율을 갖는 제2 코팅층;으로 이루어진 알루미늄 화합물 이중층;을 포함하되,n1003e#n2를 만족하고,상기 알루미늄 화합물 이중층은, 상기 투명 기판에 증착된 알루미늄 원료층을 DI 워터를 이용한 산화공정을 통해 상변환시켜 형성되는,금속산화물 투명기판.

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제1 항에 있어서,상기 n1은 1.61.7 이고,상기 n2는 1.11.5 인,금속산화물 투명기판.

제1 항에 있어서,상기 제1 코팅층은 10100nm의 범위를 만족하는 두께를 갖고,상기 제2 코팅층은 50500nm의 범위를 만족하는 두께를 갖는,금속산화물 투명기판.

제4 항에 있어서,상기 제2 코팅층은 상측으로 갈수록 폭이 점진적으로 감소하는 다수개의 단위 플레이크들로 이루어진 무작위 나노 플레이크 구조를 가지는,금속산화물 투명기판.

제5 항에 있어서,상기 제2 코팅층은 상기 무작위 나노 플레이크 구조를 가짐에 따라 상측으로 갈수록 굴절율이 연속적으로 감소하는,금속산화물 투명기판.

제1 항에 있어서,상기 제1 코팅층과 상기 제2 코팅층은 알루미늄 산화물 및 수산화 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 물질을 포함하는,금속산화물 투명기판.

제7 항에 있어서,상기 제1 코팅층은 알루미늄 산화물 박막층이고,상기 제2 코팅층은 알루미늄 산화물 나노구조층인,금속산화물 투명기판.

제8 항에 있어서,상기 제1 코팅층은 그레인 바운더리(grain boundary)를 갖는 다결정 알루미늄 산화물 박막층이고,상기 제2 코팅층은 그레인 바운더리(grain boundary)를 갖는 다결정 알루미늄 산화물 나노구조층인,금속산화물 투명기판.

투명 기판을 준비하는 제1 단계;준비된 투명 기판 상에 알루미늄 원료층을 증착하는 제2 단계; 및증착된 알루미늄 원료층을 DI 워터를 이용한 산화공정을 통해 상변환시켜 알루미늄 화합물 이중층을 형성하는 제3 단계;를 포함하는,금속산화물 투명기판의 제조방법.

제10 항에 있어서,상기 제3 단계는,알루미늄 원료층이 증착된 투명 기판을 50~100℃의 DI 워터에 침지시킨 후 기 설정된 침지시간동안 유지하는 단계;를 포함하는,금속산화물 투명기판의 제조방법.

제10 항에 있어서,상기 알루미늄 화합물 이중층은,상기 투명 기판 상에 배치된 고굴절율 화합물층으로써 n1의 굴절율을 갖는 제1 코팅층; 및 상기 제1 코팅층 상에 배치된 저굴절율 화합물층으로써 n2의 굴절율을 갖는 제2 코팅층;으로 이루어지고,n1003e#n2를 만족하는,금속산화물 투명기판의 제조방법.