레이저 광원;상기 레이저 광원에서 생성된 레이저 광의 노이즈를 제거하고 광 사이즈를 확장시키는 필터부;상기 필터부를 통과한 레이저 광이 입사되는 스테이지;를 포함하며,상기 스테이지는,웨이퍼를 고정시키는 웨이퍼 홀더, 및 반사 거울을 구비하며, 상기 웨이퍼 홀더와 상기 반사 거울은 서로 소정의 사이각을 가지며 대면하고,상기 웨이퍼 홀더 상의 웨이퍼에는 상기 레이저 광 중 적어도 일부가 제1 입사각을 갖는 제1 입사광으로 입사되며,상기 반사 거울은 상기 레이저 광 중 적어도 일부를 반사시켜서 반사광을 생성하며, 상기 반사광이 상기 웨이퍼 홀더 상의 웨이퍼에 제2 입사각을 갖는 제2 입사광으로 입사되도록 하되, 상기 반사 거울의 반사면은 소정의 곡면으로 구성되어, 상기 제2 입사각이 각각 서로 상이한 크기를 가져서 상기 웨이퍼에 형성된 회절격자의 주기가 위치에 따라서 가변하는 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치.

청구항 1에 있어서,상기 제2 입사각은 일 방향으로 증가하거나 감소하는 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치.

청구항 1에 있어서,상기 반사 거울은 소정의 곡률 반경 및 곡률 중심을 갖는 오목 거울로 구성되는 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치.

청구항 1에 있어서,상기 스테이지는 서로 사이각을 가지며 대면하는 2 개의 고정면을 갖되,상기 웨이퍼 홀더와 상기 반사 거울은 상기 각각의 고정면 상에 배치되어 상기 웨이퍼 홀더와 상기 반사 거울의 사이각이 직각으로 구성되며,상기 반사 거울은 상기 제1 입사각의 크기와 상기 제2 입사각의 크기가 같아지는 위치인 반사 중심을 갖고,상기 반사 거울의 반사 중심과 곡률 중심 사이를 직선 연결하는 라인을 기준 라인이라고 하고,상기 반사 거울의 곡률 중심과 상기 곡면 거울 상의 소정의 제1 반사 지점을 직선 연결하는 라인을 제1 라인이라 하며, 상기 레이저 광이 상기 제1 반사 지점에서 반사되어 생성된 반사광이 상기 웨이퍼 홀더에 고정된 웨이퍼에 도달하는 지점을 제1 간섭 지점이라고 하되,상기 기준 라인과 제1 라인 사이의 사이각을 매개 변수로 하여, 상기 제1 간섭 지점의 위치와 상기 제1 간섭 지점에서 생성되는 회절격자의 주기를 결정하는 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치.

청구항 4에 있어서,제1 간섭 지점에서의 회절격자의 주기는,하기 식 1 에 따라서 결정되는 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치.(식 1)(: 제1 간섭 지점에서 회절격자의 주기θ1: 제1 입사광의 입사각,θ2 : 제2 입사광의 입사각, : 기준 라인과 제1 라인 사이의 사이각,λ: 레이저 광의 파장)

청구항 4에 있어서,상기 반사 거울은 소정의 곡률 반경 및 곡률 중심을 갖는 오목 거울로 구성되며,상기 제1 간섭 지점의 위치는 하기 식 2 에 따라서 결정되는 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치.(식 2)(x0 : 스테이지 고정면과 고정면이 서로 직교하는 단부 지점에서 오목 거울의 반사 중심까지의 거리, y: 오목 거울의 반사 중심에서 반사된 반사광이 입사하는 지점과 제1 간섭 지점 사이의 거리,R : 오목 거울의 곡률 반경θ1: 제1 입사광의 입사각, : 기준 라인과 제1 라인 사이의 사이각)

레이저 광원;상기 레이저 광원으로부터 입사된 레이저 광의 노이즈를 제거하고 광 사이즈를 확장시키는 필터부;상기 레이저 광이 입사되는 스테이지;를 포함하며,상기 스테이지는, 서로 사이각을 갖는 2 개의 고정면, 웨이퍼를 고정시키는 웨이퍼 홀더, 및 반사 거울을 구비하며, 상기 웨이퍼 홀더와 상기 반사 거울은 상기 각각의 고정면 상의 서로 대면하는 면 상에 배치되어 상기 상기 웨이퍼 홀더와 상기 반사 거울의 사이각이 직각으로 구성되며,상기 웨이퍼 홀더 상의 웨이퍼에는 상기 레이저 광 중 적어도 일부가 제1 입사각을 갖는 제1 입사광으로 입사되며, 상기 반사 거울은 상기 레이저 광 중 적어도 일부의 레이저 광을 반사시켜서 반사광을 생성하여 상기 반사광이 상기 웨이퍼 홀더 상의 웨이퍼에 제2 입사각을 갖는 제2 입사광으로 입사되도록 하되, 상기 반사 거울은 곡면 거울로 구성되어, 상기 제2 입사각이 각각 서로 상이한 크기를 갖는 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치를 이용한 패턴 제조 방법에 있어서,(a) 상기 제1 입사각의 크기, 상기 반사 거울의 곡률 반경 크기, 및 반사 중심의 위치를 설정하는 단계;(b) 상기 반사 거울의 반사 중심과 곡률 중심 사이를 직선 연결하는 기준 라인을 구하는 단계;(c) 상기 반사 거울의 곡률 중심과 상기 반사 거울의 소정의 제1 반사 지점을 직선 연결하는 제1 라인을 구하는 단계;(d) 상기 기준 라인과 상기 제1 라인 사이의 사이각인 제1 중심각을 구하는 단계;(e) 상기 제1 중심각을 매개변수로 하여, 상기 반사 거울에서 반사되는 레이저 광 중 상기 제1 반사 지점에서 반사되어 생성된 반사광이 상기 웨이퍼에 입사하는 제1 간섭 지점의 위치, 및 상기 제1 간섭 지점에서의 회절격자의 주기를 도출하는 단계; 를 포함하는 패턴 제조 방법.

제7항에 있어서,상기 (e) 단계에서, 상기 제1 간섭 지점의 회절격자의 주기는 하기 식 1 에 의해서 결정되는 패턴 제조 방법.(식 1)(: 제1 간섭 지점에서 회절격자의 주기,θ1: 제1 입사광의 입사각,θ2 : 제2 입사광의 입사각, : 제1 중심각,λ: 레이저 광의 파장)

제7항에 있어서,상기 반사 거울은 소정의 곡률 반경 및 곡률 중심을 갖는 오목 거울로 구성되며,상기 (e) 단계에서, 상기 제1 간섭 지점의 위치는 하기 식 2 에 의해서 결정되는 패턴 제조 방법.(식 2)(x0 : 스테이지 고정면과 고정면이 서로 마주하는 단부 지점에서 오목 거울의 중심까지의 거리 ,y: 반사 거울의 반사 중심에서 반사된 반사광이 입사하는 지점과 제1 간섭 지점 사이의 거리R : 오목 거울의 곡률 반경,θ1: 제1 입사광의 입사각, : 제1 중심각)

제7항에 있어서,(f) 상기 제1 입사각의 크기, 상기 반사 거울의 곡률 반경 크기, 및 반사 중심의 위치 중 적어도 하나를 재 설정하는 단계;를 더 포함하는 패턴 제조 방법.