| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 레이저 광원;상기 레이저 광원으로부터 조사된 레이저 빔의 노이즈를 제거하고 동시에 빔 사이즈를 확장시키는 공간필터;상기 공간 필터로부터 확장된 레이저 빔이 조사될 수 있으며, 웨이퍼 홀더 및 반사 거울이 부가된, 웨이퍼 스테이지; 및상기 웨이퍼 홀더 상에 위치하며, 상기 공간필터로부터 바로 입사되는 제 1 평행광 및 상기 반사 거울에 의하여 입사하는 제 2 평행광이 입사될 수 있는, 가변밀도필터; 를 포함하는, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치. |
| 2 | 제 1 항에 있어서.상기 가변밀도필터는 광학 밀도(optical density)가 위치에 따라 웨이퍼 표면에 평행한 한 방향으로 선형적으로 증가 또는 감소하는 형태의 필터를 포함하는, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치. |
| 3 | 제 2 항에 있어서.상기 방향은 제 1 평행광과 제 2 평행광의 진행방향이 이루는 평면위에 있으면서 웨이퍼 평면에 평행한 방향을 포함하는, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치. |
| 4 | 제 1 항에 있어서.상기 가변밀도필터는 상기 웨이퍼 홀더와 마주보는 면에 무반사 처리(AR) 코팅된, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치. |
| 5 | 제 1 항에 있어서.상기 웨이퍼 홀더와 상기 반사 거울은 서로 수직이 되는 방향으로 배치되는, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치. |
| 6 | 제 1 항에 있어서,상기 공간필터는 렌즈 및 핀 홀을 포함하는, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치. |
| 7 | 제 1 항에 있어서,상기 레이저 광원은 He-Cd 레이저 광원, gas 레이저 광원, solid-state 레이저 광원 또는 반도체 레이저 광원을 포함하는, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치. |
| 8 | 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 의한 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치를 준비하는 단계;상기 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치의 웨이퍼 홀더에 감광막이 형성된 웨이퍼를 배치하는 단계;상기 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치의 레이저 광원으로부터 공간필터에 레이저 빔을 조사하는 단계;상기 레이저 광원으로부터 조사된 레이저 빔이 공간필터를 통과하여 노이즈가 제거되고 상기 레이저 빔의 사이즈가 확장되는 단계;상기 확장된 레이저 빔 중에서 일부인 제 1 평행광은 상기 가변밀도필터에 바로 입사하고, 나머지 일부인 제 2 평행광은 상기 반사 거울에 반사되어 상기 가변밀도필터에 입사하는 단계; 및상기 가변밀도필터를 통과한 상기 제 1 평행광과 상기 제 2 평행광의 간섭광을 상기 웨이퍼 상에 조사함으로써 상기 웨이퍼 상에 점진적으로 크기가 변화하는 나노패턴을 형성하는 단계;를 포함하는, 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치를 이용한 점진적으로 크기가 변화하는 나노패턴의 제조방법. |
