| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 11 | 제1항에 있어서, 상기 자가 조립체는 50개 내지 500개의 이차원 나노시트를 포함하는 것인,자가 조립체. |
| 1 | 이차원 나노시트들이 서로 모서리와 모서리가 결합되어 속이 빈 구 형태로 형성되는 것인,자가 조립체. |
| 2 | 제1항에 있어서,상기 이차원 나노시트는 모서리 및 면 영역에 전기 이중층을 포함하는 것인,자가 조립체. |
| 3 | 제1항에 있어서,상기 이차원 나노시트 표면에 실리카 코팅층을 포함하는 것인,자가 조립체. |
| 4 | 제3항에 있어서,상기 실리카 코팅층은 금속 전기 이중층의 결정구조를 포함하는 것인,자가 조립체. |
| 5 | 제4항에 있어서,상기 금속 전기 이중층의 결정 구조는 NiCo을 포함하는 금속수산화물이 실리카 코팅층 내부로 캡슐화된 것인,자가 조립체. |
| 6 | 제1항에 있어서,상기 이차원 나노시트의 두께는 10.0 내지 15.0nm인,자가 조립체. |
| 7 | 제3항에 있어서,상기 실리카 코팅층의 두께는 5 내지 20nm 인,자가 조립체. |
| 8 | 제1항에 있어서,상기 자가 조립체의 내부 직경은 0.5 내지 5.0μm인,자가 조립체. |
| 9 | 제1항에 있어서,상기 자가 조립체의 표면적은 1 μm2내지 10 μm2 인,자가 조립체. |
| 10 | 제1항에 있어서, 상기 모서리와 모서리의 결합은 Si-O-Si 공유 결합을 포함하는 것인,자가 조립체. |
| 12 | 이차원 나노시트의 준비 단계; 및 상기 이차원 나노시트의 캡슐화 단계;를 포함하며,상기 이차원 나노시트의 캡슐화 단계는 21 내지 29℃에서 5 내지 30시간 동안 수행되어 복수의 이차원 나노시트가 캡슐화되는 것인,자가 조립체의 제조방법. |
| 13 | 제12항에 있어서,상기 자가 조립체의 제조방법은 이차원 나노시트의 캡슐화 단계 이전에 실리카염을 포함하는 용액을 투입하는 단계;를 더 포함하는 것인,자가 조립체의 제조방법. |
| 14 | 제12항에 있어서,상기 이차원 나노시트는 도데실 설페이트, Ni 금속, Co 금속 및 수산화기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이 삽입된 것인,자가 조립체의 제조방법. |
| 15 | 제12항에 있어서,상기 이차원 나노시트의 캡슐화 단계는 pH 4.0 내지 7.0 범위에서 수행되는 것인,자가 조립체의 제조방법. |
