피가열물을 수용하기 위한 제1 공간이 내부에 형성되는 챔버;마이크로웨이브를 진행하기 위한 제2 공간이 내부에 형성되고, 서로 어긋나는 위치의 상기 챔버에 연결되는 적어도 두 개 이상의 도파관; 및상기 챔버의 상기 제1 공간과 상기 도파관 각각의 상기 제2 공간을 점유하도록 상기 챔버와 상기 도파관 각각의 내부에 배치되는 블록 부재를 포함하고,상기 도파관은 상기 마이크로웨이브의 소스 간에 위상 차이를 갖도록 적어도 하나가 다른 길이를 가지며,상기 마이크로웨이브의 인가 시 전기장 분포가 시간에 따라 회전하는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 1 항에 있어서,상기 챔버는 직육면체로 형성되는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 2 항에 있어서,상기 챔버의 가로와 세로의 길이는 동일한 길이로 형성되는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 3 항에 있어서,상기 챔버의 가로와 세로의 길이는 상기 도파관의 길이보다 길게 형성되는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 4 항에 있어서,상기 도파관은, 상기 챔버의 제1 모서리의 일 측면에 연결되는 제1 도파관;상기 챔버의 제2 모서리의 일 측면에 연결되는 제2 도파관;상기 챔버의 제3 모서리의 일 측면에 연결되는 제3 도파관; 및상기 챔버의 제4 모서리의 일 측면에 연결되는 제4 도파관을 포함하는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 5 항에 있어서,상기 제1 도파관과 상기 제3 도파관은 동일한 길이를 가지고,상기 제2 도파관과 상기 제4 도파관은 상기 제1 도파관과 다른 길이의 동일한 길이를 가지는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 6 항에 있어서,상기 제2 도파관과 상기 제4 도파관은 상기 제1 도파관과 상기 제3 도파관보다 상기 마이크로웨이브 파장의 1/2만큼 긴 길이를 가지는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 5 항에 있어서,상기 제1 도파관은 제1 길이를 가지고,상기 제2 도파관과 상기 제4 도파관은 상기 제1 길이보다 긴 제2 길이를 가지며,상기 제3 도파관은 상기 제2 길이보다 긴 제3 길이를 가지는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 8 항에 있어서,상기 제2 도파관과 상기 제4 도파관은 상기 제1 도파관보다 상기 마이크로웨이브 파장의 1/2만큼 긴 길이를 가지고,상기 제3 도파관은 상기 제1 도파관보다 상기 마이크로웨이브의 파장만큼 긴 길이를 가지는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 1 항에 있어서,상기 블록 부재는상기 챔버의 상기 제1 공간을 점유하도록 배치되고 일정한 높이를 가지고 평탄하게 형성되는 제1 부재와, 상기 도파관 각각의 제2 공간을 점유하도록 배치되고 상기 제1 부재로부터 상기 도파관의 길이 방향으로 높이가 낮아지도록 경사지게 형성되는 제2 부재를 포함하는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 1 항에 있어서,상기 도파관 각각의 다른 길이에 따라 상기 마이크로웨이브의 소스 간 위상 차이가 조절되는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 11 항에 있어서,상기 마이크로웨이브의 소스 간의 위상 차이 조절을 통해, 상기 챔버 내부에서 마이크로웨이브 처리 시간과 관계없이 균일한 전기장 분포를 형성하는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 12 항에 있어서,x축에 평행한 도파관의 경우 90 deg, y축에 평행한 도파관의 경우 180 deg의 위상 차이를 가지는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 13 항에 있어서,상기 챔버의 내부에서 시간에 따라 일 방향으로 전기장 분포가 회전하는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 14 항에 있어서,상기 챔버 내에서 전기장 분포의 오차를 기준치 미만으로 유지하는, 마이크로웨이브 가열 장치.

제 15 항에 있어서,상기 챔버의 크기 조절을 통해 전기장 분포의 오차를 조절하는, 마이크로웨이브 가열 장치.