은으로 이루어진 베이스 담체의 표면에 조촉매로서 코발트 또는 니켈의 산화물을 섬 형태로 증착시킨 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매

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청구항 1에 있어서,상기 증착된 산소친화적 금속 산화물의 두께는 3㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매

청구항 3에 있어서,상기 증착된 산소친화적 금속 산화물의 두께는 2㎚이하인 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매

청구항 1, 3, 4 중 어느 한 항에 있어서,상기 증착은 전자빔 증착인 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매

은 펠릿의 표면을 세척하여 베이스 담체로 준비하는 은베이스준비단계; 및조촉매로서 산소친화적 금속을 산화물의 상태로 은 펠릿의 표면에 일정한 두께 이하의 섬 형태로 증착시키는 조촉매증착단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매의 제조방법

청구항 6에 있어서,상기 산소친화적 금속은 코발트 또는 니켈인 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매의 제조방법

청구항 6에 있어서,상기 조촉매증착단계에서는 전자빔 증착을 시행하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매의 제조방법

청구항 8에 있어서,상기 전자빔 증착을 시행할 때 챔버 내 기압은 1×E-6 토르 이하이며, 증착속도는 0.2~0.3 Å/s 인 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매의 제조방법.

청구항 6 내지 9 중 어느 한 항에 있어서,상기 조촉매가 증착된 두께는 3㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매의 제조방법

청구항 10에 있어서,상기 조촉매가 증착된 두께는 2㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 이산화탄소의 선택적 환원을 위한 은 기반 전기화학촉매의 제조방법