제5항에 있어서,상기 제2 단계에서, 상기 스핀 코팅은 2700rpm 내지 3300rpm으로 25초 내지 35초 동안 진행되는,카이랄 유도 스핀 선택성 과산화수소 발생 소자의 제조방법.

다중 층상의 2차원 전이 금속 디칼코게나이드 물질(2 dimension transition metal dichalcogenide, 2D TMD); 및상기 2D TMD 층간 삽입되는 스핀 필터링층;을 포함하며, 상기 스핀 필터링층은 카이랄 유기물을 포함하는,카이랄 유도 스핀 선택성 과산화수소 발생 소자.

제1항에 있어서,상기 2D TMD 층간 삽입되는 스핀 필터링층은 촉매층을 더 포함하는,카이랄 유도 스핀 선택성 과산화수소 발생 소자.

제2항에 있어서,상기 촉매층은 MnS, V₂O₃, MnO₂, Pt/C, V₂O₃/MnS, V₂O₃・MnS 혼합물로부터 선택되는,카이랄 유도 스핀 선택성 과산화수소 발생 소자.

제3항에 있어서,상기 촉매층은 산화 바나듐 화합물(VOx)을 포함하는,카이랄 유도 스핀 선택성 과산화수소 발생 소자.

바나듐 전구체 및 카이랄성 타타르산(tartaric acid)을 포함하는 혼합 용액을 제조하는 제1 단계; 및상기 혼합 용액을 기판 상에 스핀 코팅 및 열처리하는 제2 단계;를 포함하는,카이랄 유도 스핀 선택성 과산화수소 발생 소자의 제조방법.

제5항에 있어서,상기 제2 단계에서, 상기 열처리 과정은 350도 내지 450도에서 25분 내지 35분 동안 진행되는,카이랄 유도 스핀 선택성 과산화수소 발생 소자의 제조방법.

기판 상에 위치하는 광산화전극; 및상기 광산화전극 상에 위치하는 전하전달층;을 포함하며, 상기 전하전달층은 다수의 보호층을 포함하는 스핀 필터링층을 포함하고, 상기 스핀 필터링층은 카이랄성 물질을 포함하는,카이랄 유도 스핀 선택성 물분해 소자.

기판 상에 위치하는 광산화전극; 및상기 광산화전극의 표면에 증착되어 있는 카이랄성을 갖는 촉매층;을 포함하는,카이랄 유도 스핀 선택성 물분해 소자.

코어; 및 상기 코어를 둘러싸는 쉘;을 포함하는 코어-쉘 이종구조 페로브스카이트 양자점 입자를 포함하며, 상기 쉘은 2차원 카이랄 유기-무기물 하이브리드 페로브스카이트를 포함하는,카이랄 유도 스핀 선택성 스핀-LED 소자.