제13항에 있어서,상기 (c) 단계는, 상기 혼합액을 투명 전극층에 코팅하고, 불활성 가스 분위기에서 어닐링하는 것인, 전기화학 전극의 제조방법.

제13항에 있어서,상기 (d) 단계에서, 전하전달층은 원자층 증착법(Atomic layer deposition; ALD)으로 형성되는, 전기화학 전극의 제조방법.

삭제

투명 전극층;상기 투명 전극층 상에 위치하는 촉매 물질층;을 포함하는 가스 발생 전극 및상기 가스 발생 전극을 덮는 하이드로겔 보호층;을 포함하며,상기 하이드로겔 보호층은 가스 발생 전극 상에 등각적으로 결착된 것이고,상기 투명 전극층과 촉매 물질층 사이에 광흡수층 및 전하전달층을 포함하며,상기 가스 발생 전극의 표면은 상기 촉매 물질층이 접촉하는 제1영역과, 상기 촉매 물질층이 위치하지 않으면서 상기 하이드로겔 보호층과 접촉하는 제2영역을 포함하고, 상기 가스 발생 전극 표면에 반응성 관능기를 포함하는 화합물과 공유결합된 자기조립 단분자층을 더 포함하고,상기 반응성 관능기는 2 내지 4개의 알데하이드기를 포함하는 화합물로 처리되어 알데하이드기로 활성화되고,상기 알데하이드기와 상기 하이드로겔 보호층을 구성하는 중합성 단량체와 공유결합한 코팅층을 더 포함하는 것인전기화학 전극.

삭제

제1항에 있어서,상기 광흡수층은 전이후금속, 준금속 및 전이금속으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는, 전기화학 전극.

제1항에 있어서,상기 전하전달층은 금속 또는 금속 산화물을 포함하는, 전기화학 전극.

제1항에 있어서,상기 촉매 물질층은 금속 및 이의 산화물, 질화물, 산질화물, 카바이드, 황화물, 인화물 및 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나의 촉매를 포함하는, 전기화학 전극.

제1항에 있어서,상기 하이드로겔 보호층의 두께는 10 내지 2,000 μm 인, 전기화학 전극.

제1항에 있어서,상기 하이드로겔 보호층의 기공 직경은 1 내지 1,000 nm인, 전기화학 전극.

삭제

제1항에 있어서,상기 하이드로겔 보호층은 상기 가스 발생 전극의 표면과 공유결합된, 전기화학 전극.

제1항에 있어서,상기 하이드로겔 보호층은 전하를 가지는 다량체를 포함하는, 전기화학 전극.

삭제

삭제

(a) 알콕시알코올계 용매를 포함하는 제1액을 제조하는 단계;(b) 메르캅토 산계 용매 및 알칸올아민계 용매를 포함하는 제2액을 제조하는 단계;(c) 상기 제1액 및 제2액을 혼합한 혼합액을 투명 전극층에 도포하여 광흡수층을 형성하는 단계;(d) 상기 단계 (c)에서 형성된 광흡수층 상에 전하전달층을 형성하는 단계;(e) 상기 단계 (d)에서 형성된 전하전달층 상에 촉매 물질층을 형성하는 단계; 및(f) 상기 단계 (c) 내지 (e)에서 형성된 광흡수층, 전하전달층 및 촉매 물질층을 포함하는 가스 발생 전극을 덮는 하이드로겔 보호층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 (e) 단계 후에, 3-(트리메톡시실릴)프로필메타크릴레이트 또는 알콕시실란아민으로 가스 발생 전극의 표면을 개질하는 단계, 및2 내지 4개의 알데하이드기를 포함하는 화합물로 처리하는 단계;를 더 포함하는전기화학 전극의 제조방법.

제13항에 있어서,상기 메르캅토 산계 용매는 메르캅토아세트산, 메르캅토프로피온산, 메르캅토부티릭산, 메르캅토헥사노익산, 메르캅토옥타노익산, 메르캅토데카노익산 및 메르캅토도데카노익산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 전기화학 전극의 제조방법.

제13항에 있어서,상기 알칸올아민계 용매는 NH2-(CH2)m-OH(m은 1 내지 4의 정수)의 화학식으로 표시되는 화합물인, 전기화학 전극의 제조방법.

제13항에 있어서,상기 제2액의 메르캅토 산계 용매 및 알칸올아민계 용매의 몰비는 18:1 내지 20:1인, 전기화학 전극의 제조방법.

제13항에 있어서,상기 (f) 단계에서, 상기 하이드로겔 보호층은 아민기를 포함하는 중합성 단량체 및 다관능성 단량체를 중합하여 제조된, 전기화학 전극의 제조방법.

제1항에 따른 전기화학 전극을 사용하여 수소, 산소, 질소 및 염소로 이루어지는 군으로부터 선택되는 가스를 제조하는 방법.