RnDcircle

번호	청구항
1	삭제
2	삭제
3	삭제
4	삭제
5	삭제
6	다층 구조 소자를 구성하는 층의 커버율 검출 방법이며, 다층 구조 소자는, 기판과, 기판 상에 피착된 제1 층과, 제1 층 상에 피착된 제2 층, 및 제2 층 상에 피착된 제3 층 을 포함하고, X-선 회절에 의해 검출된 제2 층에 의해 유도된 제3 층의 결정화율에 기초하여 제2 층의 제1 층에 대한 커버율을 검출하는, 커버율 검출 방법.
7	삭제
8	제6항에 있어서, 제2 층의 커버율이 증가할수록 제3 층의 결정화율이 증가하는, 커버율 검출 방법.
9	제6항에 있어서, 제3 층의 결정화율이 포화되면 제2 층의 커버율은 100%로 결정되는, 커버율 검출 방법.
10	삭제
11	제6항, 제8항 또는 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 기판은 ITO 코팅된 유리 기판이고, 제1 층은 Alq3이고, 제2 층은 LiF이고, 제3 층은 Al인, 커버율 검출 방법.
12	제6항에 있어서, 제2 층은 제3 층의 결정화를 방해하는, 커버율 검출 방법.
13	제6항에 있어서, 제2 층의 커버율이 증가할수록 제3 층의 결정화율이 감소하는, 커버율 검출 방법.
14	삭제
15	다층 구조 소자의 제조 방법으로서, 기판 상에 제1 층을 피착하는 단계와 제1 층 상에 제2 층을 피착하는 단계, 및 제2 층 상에 제3 층을 피착하는 단계 를 포함하고, 제6항, 제8항, 제9항, 제12항 또는 제13항 중 어느 한 항에 따른 커버율 검출 방법에 의해 검출된 제2 층의 제1층에 대한 커버율을 제공하는 두께로 제2 층을 제1 층 상에 피착하는, 다층 구조 소자의 제조 방법.
16	삭제
17	삭제