다층 구조 소자 및 그 제조 방법
DEVICE HAVING A MULTILAYERED STRUCTURE AND METHOD OF FABRICATING THEREOF
특허 요약
본 발명은 다층 구조의 소자에 있어서, 제1 층 상의 제2 층의 커버율을 산출하는데 있어서 제3 층의 결정화율을 측정하여 결정하는 다층 구조 소자 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. 다층 구조 소자는 기판과, 기판 상에 피착된 제1 층과 제1 층 상에 피착된 제2 층 및 제2 층 상에 피착된 제3 층을 포함하고, 제1 층 상의 제2 층의 커버율은 제3 층의 결정화율에 의해 결정된다. 제3 층의 결정화율은 X-선 회절을 측정함으로써 구할 수 있다. 다층 구조, 커버율, X-선 회절
청구항
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| 12 | 다층 구조 소자의 제조 방법으로서,기판 상에 제1 층을 피착하는 단계와제1 층 상에 제2 층을 피착하는 단계, 및제2 층 상에 제3 층을 피착하는 단계를 포함하되,X-선 회절에 의해 검출된 제2 층에 의해 유도된 제3 층의 결정화율에 기초하여, 제2 층의 제1 층에 대한 특정 커버율을 제공하는 두께로 제2 층을 제1 층 상에 피착하는, 다층 구조 소자의 제조 방법. |
| 13 | 제12항에 있어서,제1 층 상의 제2 층의 커버율이 증가할수록 제3 층의 결정화율이 증가하는, 다층 구조 소자의 제조 방법. |
| 14 | 제12항에 있어서,제1 층 상의 제2 층의 커버율 100%는 제3 층의 결정화율의 포화에 의해 결정되는, 다층 구조 소자의 제조 방법. |
| 15 | 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,기판은 ITO 코팅된 유리 기판이고,제1 층은 Alq3으로 이루어지고,제2 층은 LiF로 이루어지고,제3 층은 Al로 이루어지는, 다층 구조 소자의 제조 방법. |
| 16 | 제12항에 있어서,제1 층 상의 제2 층의 커버율이 증가할수록 제3 층의 결정화율이 감소하는, 다층 구조 소자의 제조 방법. |
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