유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법 및 이를 위한 전구체
Method for manufacturing Bi2O2Se thin film using organometallic chemical vapor deposition method and precursor for the same
특허 요약
유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi 2 O 2 Se 박막 제조방법으로, 기상의 프리커서를 제 1 온도에서 분해하는 단계; 상기 분해된 성분으로부터 이용한 Bi 2 O 2 Se 화합물을 형성하는 단계; 및 상기 Bi 2 O 2 Se 화합물을 제 2 온도로 기판 상에 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi 2 O 2 Se 박막 제조방법이 제공된다.
청구항
번호청구항
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유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법으로, 기상의 프리커서를 제 1 온도에서 분해하는 단계; 상기 분해된 성분으로부터 이용한 Bi2O2Se 화합물을 형성하는 단계; 및상기 Bi2O2Se 화합물을 제 2 온도로 기판 상에 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법.

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제 1항에 있어서, 제 2 온도는 제 1 온도 이하인 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법.

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제 1항에 있어서, 상기 기상의 프리커서를 제 1 온도에서 분해하는 단계와, 제 2 온도로 기판 상에 증착하는 단계는 열적으로 분리된 별도의 공간에서 진행되는 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법.

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제 1항에 있어서, 상기 프리커서는 Bi(Ph)3, DMSe 및 산소를 포함하며, 섭씨 400 내지 500도의 온도에서 분해되는 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법.

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제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 따른 Bi2O2Se 박막 제조방법을 수행하기 위한 장치로서, 챔버; 및 상기 챔버 내로 유입되는 프리커서 각각의 유입라인을 포함하며,상기 챔버는 열적으로 분리되는 2개의 챔버 존을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조장치.

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제 5항에 있어서, 상기 유입라인 각각에는 상기 프리커서 유입량을 제어하기 위한 제어수단이 구비된 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조장치.

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유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법으로, 기상의 프리커서를 분해하는 단계; 상기 분해된 성분으로부터 Bi2O2Se 화합물을 형성하는 단계; 및상기 Bi2O2Se 화합물을 기판 상에 증착하는 단계를 포함하며, 상기 분해하는 단계, 형성하는 단계 및 증착하는 단계는 하나의 온도 영역을 갖는 유기금속화학기상증착용 챔버에서 수행되는 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법.

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제 7항에 있어서, 상기 프리커서는 Bi(Ph)3, DMDSe 및 산소를 포함하며, 섭씨 300 내지 400도의 온도에서 분해되는 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법.

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제 8항에 있어서, 상기 유기금속화학기상증착용 챔버의 공정온도는 섭씨 300 내지 400도이며, 이것은 상기 DMDSe의 분해온도 이상인 것을 특징으로 하는 유기금속화학기상증착 방법을 이용한 Bi2O2Se 박막 제조방법.

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