피처리물의 길이방향으로 연장되는 제1 전극부;상기 피처리물에 대향되는 상기 제1 전극부의 제1 모서리를 감싸는 유전체 장벽부; 및상기 제1 전극부와 상기 유전체 장벽부를 감싸도록 배치되되 상기 제1 전극부에 인가된 전력에 기초하여 상기 제1 전극부와의 사이에 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge)을 발생시켜 공정가스를 플라즈마화시키고 플라즈마화된 상기 공정가스를 상기 피처리물 방향으로 공급하는 플라즈마 공급모듈을 포함하며,상기 플라즈마 공급모듈은,상기 제1 전극부와 상기 유전체 장벽부를 감싸도록 마련되되 상기 제1 전극부의 제1 모서리를 상기 피처리물 방향으로 노출시키는 개구부가 형성된 본체부;상기 개구부에 인접하게 상기 본체부의 내면에 결합되되 상기 유전체 장벽부를 사이에 두고 상기 제1 전극부에 대향되게 배치되며 상기 제1 모서리의 교차되는 양측변에 각각 평행되고 상기 제1 모서리의 측변을 따라 너비조절이 가능하게 마련된 한 쌍의 제2 전극을 포함하며, 상기 제1 전극부에 인가된 전력에 기초하여 상기 제1 전극부와의 사이에 유전체 장벽 방전을 발생시키는 제2 전극부; 및상기 본체부의 내부에 마련되되 상기 제2 전극부와 상기 유전체 장벽부 사이에 공정가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

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제1항에 있어서,상기 가스 공급부는,상기 본체부의 내부에 마련되되, 상기 한 쌍의 제2 전극과 상기 유전체 장벽부 사이에 형성된 방전공간 각각에 상기 공정가스를 공급하는 복수의 가스 공급유로를 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제4항에 있어서,상기 복수의 가스 공급유로 각각은 상기 방전공간 방향으로 지그재그 형상으로 형성되며,상기 가스 공급유로와 상기 방전공간 사이에 버퍼공간이 형성되는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제5항에 있어서,상기 플라즈마 공급모듈은,상기 버퍼공간에 마련되어 상기 제1 전극부와 상기 본체부를 전기적으로 절연하는 제1 절연체를 더 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제4항에 있어서,상기 플라즈마 공급모듈은,상기 개구부에 대향되는 상기 본체부의 기저부에 결합되되, 상기 공정가스를 공급받으며 상기 공정가스를 상기 본체부의 길이방향으로 분배하여 상기 복수의 가스 공급유로에 공급하는 가스 분배부를 더 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제7항에 있어서,상기 기저부는,상기 본체부의 길이방향 양측 테두리부 각각에 길이방향을 따라 상호 이격되게 형성되고 상기 복수의 가스 공급유로에 연통되는 복수의 가스 공급구를 포함하며,상기 가스 분배부는,상기 기저부에 결합되는 플레이트;상기 플레이트의 내부에 마련되되, 상기 플레이트의 길이방향 양측 테두리부 각각에 길이방향을 따라 형성되어 상기 복수의 가스 공급구에 연통되는 복수의 가스 분배유로; 및상기 플레이트의 중심부에 형성되되, 상기 복수의 가스 분배유로에 연통되며 가스 공급원으로부터 상기 공정가스를 공급받아 상기 복수의 가스 분배유로에 상기 공정가스를 주입하는 복수의 가스 주입구를 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제8항에 있어서,상기 복수의 가스 공급구는,상기 본체부의 길이방향을 따라 상호 교호되게 배치되는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제1항에 있어서,상기 본체부와 상기 제1 전극부 사이에 마련되되, 상기 제1 전극부와 상기 본체부를 전기적으로 절연하는 제2 절연체를 더 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제1항에 있어서,상기 제1 전극부의 내부에 상기 제1 전극부의 길이방향을 따라 형성된 냉각수 유로를 구비하여 상기 제1 전극부를 냉각시키는 냉각부를 더 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

피처리물의 길이방향으로 연장되되 단면이 이등변 삼각형으로 형성되며, 제1 모서리가 상기 피처리물에 대향되게 배치되는 제1 전극부;상기 제1 모서리의 교차되는 양측변에 배치되되 상기 제1 모서리를 감싸는 유전체 장벽부;상기 제1 전극부와 상기 유전체 장벽부가 수용되는 중공형상으로 형성되되 상기 제1 전극부의 제1 모서리를 상기 피처리물 방향으로 노출시키는 개구부가 형성된 본체부;상기 본체부의 내면에 결합되되 상기 개구부의 양측에 각각 대칭되게 마련되며 상기 유전체 장벽부를 사이에 두고 상기 제1 전극부에 대향되게 배치되어 상기 유전체 장벽부와 사이에 방전공간을 형성하고 상기 제1 모서리의 양측변에 각각 평행되고 상기 제1 모서리의 측변을 따라 너비조절이 가능하게 마련되며, 상기 제1 전극부에 인가된 전력에 기초하여 상기 방전공간에 유전체 장벽 방전을 발생시키는 한 쌍의 제2 전극; 및상기 본체부의 내부에 마련되되 상기 개구부의 양측에 각각 대칭되게 배치되어 상기 방전공간 각각에 공정가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제12항에 있어서,상기 가스 공급부는,상기 본체부의 내부에 마련되되, 상기 개구부의 양측에 각각 대칭되게 형성되며 상기 방전공간 각각에 상기 공정가스를 공급하는 복수의 가스 공급유로를 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제13항에 있어서,상기 복수의 가스 공급유로 각각은 상기 방전공간 방향으로 지그재그 형상으로 형성되며,상기 가스 공급유로와 상기 방전공간 사이에 버퍼공간이 형성되는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제13항에 있어서,상기 개구부에 대향되는 상기 본체부의 기저부에 결합되되, 상기 공정가스를 공급받으며 상기 공정가스를 상기 본체부의 길이방향으로 분배하여 상기 복수의 가스 공급유로에 공급하는 가스 분배부를 더 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제15항에 있어서,상기 기저부는,상기 본체부의 길이방향 양측 테두리부 각각에 길이방향을 따라 상호 이격되게 형성되고 상기 복수의 가스 공급유로에 연통되는 복수의 가스 공급구를 포함하며,상기 가스 분배부는,상기 기저부에 결합되는 플레이트;상기 플레이트의 내부에 마련되되, 상기 플레이트의 길이방향 양측 테두리부 각각에 길이방향을 따라 형성되어 상기 복수의 가스 공급구에 연통되는 복수의 가스 분배유로; 및상기 플레이트의 중심부에 형성되되, 상기 복수의 가스 분배유로에 연통되며 가스 공급원으로부터 상기 공정가스를 공급받아 상기 복수의 가스 분배유로에 상기 공정가스를 주입하는 복수의 가스 주입구를 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

제12항에 있어서,상기 제1 전극부의 내부에 상기 제1 전극부의 길이방향을 따라 형성된 냉각수 유로를 구비하여 상기 제1 전극부를 냉각시키는 냉각부를 더 포함하는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체.

피처리물이 로딩되는 서셉터; 및상기 피처리물을 사이에 두고 상기 서셉터에 대향되게 배치되며 인가된 전력에 기초하여 상기 서셉터와의 사이에 유전체 장벽 방전을 발생시켜 공정가스를 플라즈마화시키는 유전체 장벽 방전용 전극 조립체를 포함하며,상기 유전체 장벽 방전용 전극 조립체는,상기 피처리물의 길이방향으로 연장되는 제1 전극부;상기 피처리물에 대향되는 상기 제1 전극부의 제1 모서리를 감싸는 유전체 장벽부; 및상기 제1 전극부와 상기 유전체 장벽부를 감싸도록 배치되되 상기 제1 전극부에 인가된 전력에 기초하여 상기 제1 전극부와의 사이에 유전체 장벽 방전을 발생시켜 공정가스를 플라즈마화시키고 플라즈마화된 상기 공정가스를 상기 피처리물 방향으로 공급하는 플라즈마 공급모듈을 포함하며,상기 플라즈마 공급모듈은,상기 제1 전극부와 상기 유전체 장벽부를 감싸도록 마련되되 상기 제1 전극부의 제1 모서리를 상기 피처리물 방향으로 노출시키는 개구부가 형성된 본체부;상기 본체부의 내면에 결합되되 상기 개구부의 양측에 각각 대칭되게 마련되며 상기 유전체 장벽부를 사이에 두고 상기 제1 전극부에 대향되게 배치되어 상기 유전체 장벽부와 사이에 방전공간을 형성하고 상기 제1 모서리의 교차되는 양측변에 각각 평행되고 상기 제1 모서리의 측변을 따라 너비조절이 가능하게 마련되며, 상기 제1 전극부에 인가된 전력에 기초하여 상기 방전공간에 유전체 장벽 방전을 발생시키는 한 쌍의 제2 전극; 및상기 본체부의 내부에 마련되되 상기 개구부의 양측에 각각 대칭되게 배치되어 상기 방전공간 각각에 공정가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하는 플라즈마 처리장치.

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제18항에 있어서,상기 가스 공급부는,상기 본체부의 내부에 마련되되, 상기 개구부의 양측에 각각 대칭되게 형성되며 상기 방전공간 각각에 상기 공정가스를 공급하는 복수의 가스 공급유로를 포함하는 플라즈마 처리장치.

제20항에 있어서,상기 복수의 가스 공급유로 각각은 상기 방전공간 방향으로 지그재그 형상으로 형성되며,상기 가스 공급유로와 상기 방전공간 사이에 버퍼공간이 형성되는 플라즈마 처리장치.

제20항에 있어서,상기 플라즈마 공급모듈은,상기 개구부에 대향되는 상기 본체부의 기저부에 결합되되, 상기 공정가스를 공급받으며 상기 공정가스를 상기 본체부의 길이방향으로 분배하여 상기 복수의 가스 공급유로에 공급하는 가스 분배부를 더 포함하는 플라즈마 처리장치.

제22항에 있어서,상기 기저부는,상기 본체부의 길이방향 양측 테두리부 각각에 길이방향을 따라 상호 이격되게 형성되고 상기 복수의 가스 공급유로에 연통되는 복수의 가스 공급구를 포함하며,상기 가스 분배부는,상기 기저부에 결합되는 플레이트;상기 플레이트의 내부에 마련되되, 상기 플레이트의 길이방향 양측 테두리부 각각에 길이방향을 따라 형성되어 상기 복수의 가스 공급구에 연통되는 가스 분배유로; 및상기 플레이트의 중심부에 형성되되, 상기 복수의 가스 분배유로에 연통되며 가스 공급원으로부터 상기 공정가스를 공급받아 상기 복수의 가스 분배유로에 상기 공정가스를 주입하는 복수의 가스 주입구를 포함하는 플라즈마 처리장치.