제1항에 있어서.상기 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료는 근접장 나노패터닝 방법을 이용하여 포토레지스트인 광중합성 고분자를 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 갖도록 하는 단계를 포함하여 얻어지는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

다공성의 3차원 나노구조를 갖는 고분자 재료내에 각각의 축방향으로 규칙적이거나 또는 불규칙적인 형태를 갖는 나노사이즈의 기공들이 3차원적으로 서로 연결되거나 또는 부분적으로 서로 연결되어 채널을 형성하고, 상기 나노사이즈의 기공들과 상기 다공성의 나노구조를 갖는 재료에 의해 이루어지는 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 가지며, 상기 3차원 다공성 나노구조 패턴에 의한 응력분산 효과를 통하여 고분자 벌크재료의 신축한계 이상의 고신축성을 구현할 수 있는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제1항에 있어서, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료는 전도체, 자성체, 반도체에서 선택되는 어느 하나의 특성을 나타내는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제2항에 있어서, 상기 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료는 탄성체인 광중합성 고분자에 전도성 물질, 반도체성 물질 또는 자성체가 분산되거나, 또는 상기 3차원 나노구조화된 다공성의 고분자재료의 다공성 채널에 상기 전도성 물질, 반도체성 물질 또는 자성체가 유입됨으로써 이에 대응하는 전도체, 반도체 또는 자성체의 특성을 나타내는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제3항에 있어서, 상기 전도성 물질은 탄소나노튜브, 1종 이상의 금속 나노입자 또는 금속 나노입자 혼합물, 1종 이상의 금속산화물 나노입자에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제5항에 있어서, 상기 근접장 나노패터닝 방법에 사용되는 위상 마스크의 주기성 및 배열과 입사광의 파장을 조절함에 따라 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료의 기공 사이즈와 주기성을 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제5항에 있어서, 상기 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료는, 근접장 나노패터닝 방법을 이용하여 상기 포토레지스트를 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 갖는 다공성 고분자로 만들고, 상기 다공성 고분자 구조의 기공 사이로 액상의 탄성체를 채워 넣은 후, 상기 포토레지스트에 의한 3차원 구조의 다공성 고분자를 제거함으로써 얻어지는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제1항에 있어서,상기 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료의 2차원 평면의 단면형태는 임의의 모양으로 형성될 수 있는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제8항에 있어서,상기 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료의 2차원 평면의 단면형태는, 근접장 나노패터닝 방법을 이용하여 포토레지스트를 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 갖도록 하되, 위상마스크와 함께 하나 이상의 추가의 마스크를 겹쳐 사용함으로써 2차원 평면의 단면형태가 추가의 마스크의 형태에 대응하는 모양으로 형성되거나; 또는 근접장 나노패터닝 방법을 이용하여 포토레지스트를 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 갖도록 한 이후에 상기 포토레지스트를 추가적인 패터닝 공정을 통해 임의의 모양으로 형성될 수 있는 것;을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

제1항에 있어서,상기 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료는 poly(dimetylsiloxane) (PDMS), polyurethane acrylate (PUA), perfluoropolyether (PFPE), polyester (PE) 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)

하기 단계를 포함하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법.(a) 포토레지스트(photoresist)를 기판 위에 스핀코팅(spin-coating) 후 열을 가하여 용매를 증발시키는 단계; (b) 근접장 나노 패터닝(proximity-field nanopatterning) 방법을 통하여 상기 포토레지스트를 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴이 형성되도록 하는 단계; (c) 상기 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴이 형성된 포토레지스트를 주형(template)으로 기공 사이에 액상의 탄성체(elastomer)을 함침시키는 단계; (d) 유기 용매(organic solvent)를 이용하여 상기 주형을 제거하여 상기 포토레지스트에 형성된 3차원 다공성 나노구조의 역상(inverse form) 형태의 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료를 얻는 단계; (e) 얻어진 다공성의 신축성 고분자 재료를 유기 용매로부터 꺼낸 후 건조하는 단계.

제11항에 있어서,상기 액상의 탄성체 재료는 poly(dimetylsiloxane)(PDMS), polyurethane acrylate (PUA), perfluoropolyether (PFPE), polyester (PE) 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제11항에 있어서, 상기 근접장 나노패터닝 방법에 사용되는 위상 마스크의 주기성 및 배열과 입사광의 파장을 조절함에 따라 기공 사이즈와 주기성을 조절하는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제11항에 있어서, 상기 포토레지스트의 노광시간 또는 노광량을 조절함으로써 근접장 나노패터닝 방법에 사용되는 3차원적인 간섭장의 투과두께를 조절시키는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제11항에 있어서, 상기 (a)단계에서 포토레지스트(photoresist)와 기판사이에 희생층을 추가하는 단계를 포함하며, 상기 희생층과 기판은 상기 (d)단계에서 분리되는 것을 특징을 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제11항에 있어서, 상기 유기용매는 에탄올, PGMEA, NMP, 아세톤, 포토레지스트 현상액으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제11항에 있어서,상기 액상의 탄성체(elastomer)는 전도성, 자성, 반도체 성질 중에서 선택되는 어느 하나 이상 기능성을 부여하기 위하여 전도성 물질, 자성체 또는 반도체 물질을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제17항에 있어서,상기 전도성 물질은 탄소나노튜브, 1종 이상의 금속 나노입자 또는 금속 나노입자 혼합물, 1종 이상의 금속산화물 나노입자에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제11항에 있어서,상기 (b)단계에서 근접장 나노 패터닝 방법에 사용되는 위상 마스크와 함께 하나이상의 추가의 마스크를 겹쳐 사용함으로써, 얻어지는 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료의 2차원 평면 단면형태가 추가의 마스크 형태에 대응하는 모양으로 형성될 수 있는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

제11항에 있어서,상기 (b)단계에서 근접장 나노 패터닝 방법에 의해 포토레지스트를 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 갖도록 하는 단계이후에, 상기 포토레지스트를 추가적인 패터닝 공정을 함으로써, 얻어지는 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료의 2차원 평면 단면형태가 임의의 모양으로 형성될 수 있는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 신축성 고분자 재료(porous stretchable polymer material)의 제조 방법

다공성의 3차원 나노구조를 갖는 고분자 재료내에 각각의 축방향으로 규칙적이거나 또는 불규칙적인 형태를 갖는 나노사이즈의 기공들이 3차원적으로 서로 연결되거나 또는 부분적으로 서로 연결되어 채널을 형성하고, 상기 나노사이즈의 기공들과 상기 다공성의 나노구조를 갖는 재료에 의해 이루어지는 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 가지며, 상기 3차원 다공성 나노구조 패턴에 의한 응력분산 효과를 통하여 고분자 벌크재료의 신축한계 이상의 고신축성을 구현할 수 있는, 3차원 나노구조화된 다공성의 고분자 재료를 포함하는 신축성 전도체(stretchable conductor)

제21항에 있어서, 상기 3차원 나노구조화되며 다공성의 고분자재료를 포함하는 신축성 전도체는 광중합성 고분자를 포함하며, 상기 광중합성 고분자내에 탄소나노튜브, 1종 이상의 금속 나노입자 또는 금속 나노입자 혼합물, 1종 이상의 금속산화물 나노입자에서 선택되는 어느 하나가 분산되거나, 또는 상기 3차원 나노구조화된 다공성의 고분자재료의 다공성 채널에 상기 탄소나노튜브, 1종 이상의 금속 나노입자 또는 금속 나노입자 혼합물, 1종 이상의 금속산화물 나노입자에서 선택되는 어느 하나가 유입됨으로써, 이루어지는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 고분자재료를 포함하는 신축성 전도체(stretchable conductor)

다공성의 3차원 나노구조를 갖는 고분자 재료내에 각각의 축방향으로 규칙적이거나 또는 불규칙적인 형태를 갖는 나노사이즈의 기공들이 3차원적으로 서로 연결되거나 또는 부분적으로 서로 연결되어 채널을 형성하고, 상기 나노사이즈의 기공들과 상기 다공성의 나노구조를 갖는 재료에 의해 이루어지는 주기적인 3차원 다공성 나노구조 패턴을 가지며, 상기 3차원 다공성 나노구조 패턴에 의한 응력분산 효과를 통하여 고분자 벌크재료의 신축한계 이상의 고신축성을 구현할 수 있는, 3차원 나노구조화된 다공성의 고분자 재료를 포함하는 신축성 자성재료(stretchable magnetic material)

제23항에 있어서, 상기 3차원 나노구조화되며 다공성의 고분자 재료를 포함하는 신축성 자성재료는 광중합성 고분자를 포함하며, 상기 광중합성 고분자내에 자성을 띠는 물질이 분산되거나, 또는 상기 3차원 나노구조화된 다공성의 고분자재료의 다공성 채널에 자성을 띠는 물질이 유입됨으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는, 3차원 나노구조화된 다공성의 고분자 재료를 포함하는 신축성 자성재료(stretchable magnetic material)