프로젝트 소개
본 과제는 반도체 생산 과정에서 매우 높은 온도(650℃ 이상)를 견디는 세라믹 히터를 개발하는 연구임. 이 히터는 반도체 웨이퍼를 정밀하게 가열하는 핵심 부품으로, 고온 환경에서도 안정적인 성능을 유지하는 것이 중요함.
연구 목표는 650℃ Bipolar ESC 및 Dual zone 가열 방식의 반도체 공정용 세라믹 히터를 개발하고, 650℃에서 고온체적저항 1.0 x 10^9 Ω·cm 이상을 갖는 세라믹 소재를 확보하는 것임. 또한, Hybrid hot press 시스템 완성 및 Nb 와이어/메쉬 제조 공정 기술 개발, 그리고 MgO-AlN-Al2O3 세라믹 Heater 소재의 미세구조 제어 기술 개발을 포함함. 핵심 연구 내용은 650℃ Bipolar ESC type 세라믹 히터용 소재 개발, 설계, 시제품 제작 및 평가임. 세부적으로는 Hybrid hot press 설비 제작 및 최적화, Nb 와이어 직조 및 메쉬 제조 공정 개발, 란타넘족 산화물 첨가를 통한 세라믹 Heater 소재의 내열, 플라즈마 내식성, 내습성 향상 연구, 그리고 AlN 대체 조성 세라믹 히터의 반도체 공정 적용성 및 신뢰성 평가 방안 마련임. 4, 5세대 PERC 소재 공정 기술 확보 및 내플라즈마 특성 평가, 조성 설계도 포함됨. 기대 효과는 세계 선도형 세라믹 히터 기반 기술 확보를 통한 기술 및 시장 경쟁력 강화, 국내외 시장 보급 확대로 인한 생산 확대, 고용 창출 및 신규 시장 창출 기여임.