나노재료의 광열화학반응을 이용한 차세대 박막소자 제조 시스템 개발 및 응용

2015미래창조과학부중견연구자지원
프로젝트 소개
본 과제는 광열화학반응을 활용해 OLED, 슈퍼커패시터, TFT 같은 박막소자를 포토리소그래피 또는 진공증착 없이 제조하는 공정·장비·시스템을 확보하는 연구임. 연구목표는 산업계 요구 수준의 고생산성, 연속성, 자동화 공정기술을 개발하고 공정·디바이스를 설계/제작하며 성능·신뢰성을 평가·피드백해 최적화하는 데 있음. 연구내용은 대면적 용액 공정용 초정밀 코팅 시스템, 광열화학반응 생산성 극대화 공정기술, 나노미터급 초미세 패턴 형성 방법을 연차별로 적용해 제조시스템 구축 및 플렉시블 OLED/플렉시블 슈퍼커패시터/플렉시블 TFT 제작 확립을 수행하는 것임. 기대효과는 고가 장비 의존을 줄이면서 공정 최적화와 높은 신뢰성의 차세대 박막 디바이스 제조가 가능해 원가절감 및 경쟁력 강화에 기여함.
광열화학반응박막소자 공정기술박막소자 공정장비 및 제조시스템고생산성연속성자동화공정 최적화신뢰성 평PhotothermochemicalreactionThinfilmfabricationtechnologyThinfilmfabricationmachineandsystemhighproductivitycontinuityautomationprocessoptimizationreliabilitytest
참여형태
주관
사업명
중견연구자지원
부처명
미래창조과학부
주관기관명
한국과학기술원
과제 수행연도
2015
과제 수행기간
2012.05.01 ~ 2015.04.30
과제 고유번호
1711023656
연구 개발단계
기초연구
연구비
총연구비
294,000,000 원
정부지원연구개발비
294,000,000 원
위탁연구비
0 원
민간연구비
0 원
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관한국과학기술원대학대전광역시
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL