공정내 불순물 농도를 실시간 분석 가능한 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치 개발

2023산업통상자원부차세대지능형반도체기술개발(설계제조)(R&D)
프로젝트 소개
본 과제는 반도체 제조 공정 중 발생할 수 있는 불순물 농도를 실시간으로 분석하고 관리할 수 있는 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치를 개발하는 연구임. 이는 미세한 불순물에도 민감한 반도체 공정의 안정성과 수율을 높이는 데 필수적인 기술 개발에 해당함. 연구 목표는 반도체용 극저온 냉동기 개발 및 스퍼터와 이온주입기용 극저온 고진공 배기장치 설계/제작임. 또한, 저전력 헬륨 컴프레서와 스마트 전력제어 컨트롤시스템 개발, 진공환경용 산소 프로브 확보 및 테스트, 극저온 냉동기 구동용 스테핑모터 설계/제작 등을 포함함. 핵심 연구 내용은 이러한 목표 달성을 위한 시스템 및 핵심 부품의 설계, 제작, 최적화 과정임. 기대 효과는 공정 내 불순물 실시간 감시를 통한 스퍼터 및 이온주입 공정 안정성 증가 및 생산성 향상임. 더불어 해외 경쟁사 수준의 국산 극저온 고진공 배기장치 개발로 국내 반도체 장비 산업 경쟁력 강화와 해외 시장 진출이 가능하며, 다양한 신산업 분야에 활용될 것으로 전망됨.
고진공 배기장치불순물 농도실시간 모니터링스퍼터이온주입기Highvacuum pumpImpurity concentrationMonitoring in real timeSputterIon implanter
참여형태
주관
사업명
차세대지능형반도체기술개발(설계제조)(R&D)
부처명
산업통상자원부
주관기관명
크라이오에이치앤아이
공동/위탁수행기관명
한양대학, (주)시대전기, (주)엘에이티, (주)모넴
과제 수행연도
2023
과제 수행기간
2023.04.01 ~ 2026.12.31
과제 고유번호
1415187203
연구 개발단계
개발연구
연구비
총연구비
1,350,100,000
정부지원연구개발비
1,080,000,000
위탁연구비
0
민간연구비
270,100,000
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관크라이오에이치앤아이중소기업경기도
공동/위탁기관 정보4건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동한양대학대학연구·기술개발-50,000,000
공동(주)시대전기중소기업연구·기술개발3,000,000120,000,000
공동(주)엘에이티중소기업연구·기술개발5,000,000200,000,000
공동(주)모넴중소기업연구·기술개발750,00030,000,000
사업화 정보1건
성과발생년도사업화내용사업화형태기술이전유형업체명당해년도매출액
2023공정내 불순물 농도를 실시간 분석 가능한 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치 개발기술보유자의 직접사업화_기존업체-상품화-(주)엘에이티-
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL