OLED 디스플레이용 산화물 TFT 절연막 패턴 형성을 위한 150이하의 저온난화지수를 지니는 F 기반 PFC 대체가스 개발

2023산업통상자원부탄소중립산업핵심기술개발사업
프로젝트 소개
본 과제는 저온난화 지수 150 이하의 Fluorine-Rich PFC 대체 식각 가스를 개발해 OLED 디스플레이 Oxide TFT용 절연막 공정에 적용하는 연구임. 연구 목표는 실험실·벤치·Pilot 규모 합성 및 고순도화 정제 공정 구축, 구조-물성-식각 특성 상관관계 예측 플랫폼 개발, 최적화 절연막 식각 공정 및 필드 테스트를 통한 실증화임. 핵심 연구 내용은 후보군 발굴, 정제 순도 99.0%·99.99%급 제조, 식각율·CD Bias·하부막 Damage·선택비·패턴 형상 제어, 식각 부산물 최소화, 200x200㎟ 이상 검증 및 100MT/년 급 상용공정 설계 패키지 도출임. 기대효과는 95~99% 온실가스 감축 및 해외 기술의존도 저감과 특허·수출경쟁력 확보임
탄소중립가스저GWP플라즈마 식각가스디스플레이 식각공정산화물 반도체 식각carbon neutral Gaslow gwpplasma etching gasdisplay etchingoxide TFT etching
참여형태
협동
사업명
탄소중립산업핵심기술개발사업
부처명
산업통상자원부
주관기관명
한국화학연구원
협동수행기관명
한국화학연구원, 한국전자기술연구원
공동/위탁수행기관명
성균관대학, (재)포항산업과학연구원, 서강대학, 경상국립대학, 엘지디스플레이(주), 인베니아(주), 에스케이스페셜티(주)
과제 수행연도
2023
과제 수행기간
2023.07.01 ~ 2030.12.31
과제 고유번호
1415188088
연구 개발단계
개발연구
연구비
총연구비
2,001,607,000 원
정부지원연구개발비
1,750,000,000 원
위탁연구비
0 원
민간연구비
251,607,000 원
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
협동한국화학연구원출연연구소대전광역시
주관한국화학연구원출연연구소대전광역시
협동한국전자기술연구원기타경기도
공동/위탁기관 정보7건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동성균관대학대학연구·기술개발-400,000,000
공동(재)포항산업과학연구원기타연구·기술개발-400,000,000
공동서강대학대학연구·기술개발-100,000,000
공동경상국립대학대학연구·기술개발-142,500,000
공동엘지디스플레이(주)대기업기타2,000,0007,500,000
공동인베니아(주)중견기업연구·기술개발2,143,00050,000,000
공동에스케이스페셜티(주)대기업연구·기술개발30,000,000200,000,000
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL