프로젝트 소개
본 과제는 반도체 제조의 핵심장비인 EUV lithography 장비에 쓰이는 소재·부품의 평가/분석/검사에 활용 가능한 고품질 EUV 또는 beyond EUV 광원을 개발하는 연구임.
연구 목표는 EUVL 핵심기술의 자립화에 기여하는 데 있음. 핵심 연구 내용은 고품질 광원 개발, 상세 스펙 측정, EUV 광원 응용 데이터 확보, EUV lithography 장비의 소재·부품용 평가/분석/검사장비 활용 가능성 검증, 학회·전시회를 통한 홍보 및 광학특성 측정 데모·서비스 수행임. 기대 효과는 (B)EUVL 핵심소재·부품 평가/분석/검사장비 개발 지원, 국내 EUVL 산업생태계 구축, 소재·부품·장비 자립화, 차세대 노광공정 핵심기술 선점, 비용 절감, 기술유출 우려 완화, 매출증대, 수출증대, 고용창출임.