프로젝트 소개
본 과제는 반도체 Wafer 세정장비의 핵심인 메가소닉 유니트에서, 높이·부하 등 조건 변화에도 안정적으로 세정 성능을 유지해 패턴손상을 줄이는 진동자·제어 기술을 연구하는 과제임.
연구목표는 o 높이변화에 따른 임피던스 특성변화 최소화 o 부하변동에 대한 주파수 추종 제어기술 확립 o 진동자 음압분포 계측 및 분석과 진동자-발진기 매칭으로 정밀제어 구현 정함. 연구내용은 부하 상태변화 임피던스 아날라이저 특성분석, 동작 실험용 발진기 제작, 오염물 선정·오염 증착 및 Aging 조건 확인, Pattern Damage 평가용 Pattern 선정·제작, 세정효율과 표면손상 평가로 최적주파수 선정 및 이론 해석 수행임. 기대효과는 패턴손상 저감과 안정적 출력 제어로 Wafer 세정 품질향상, 미세세정 요구 장비로 확장, 세계 최고기술 확보 및 경쟁사 대비 가격·수요처 장비경쟁력 제고로 이어짐.