리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발

2024산업통상자원부전자부품산업기술개발(R&D)
프로젝트 소개
본 과제는 OLED 디스플레이의 화소를 매우 작고 정밀하게 만들기 위해 포토리소그래피 기술을 적용하는 연구임. 포토리소그래피는 빛을 이용해 원하는 모양을 만드는 공정으로, 이를 통해 기존 방식보다 높은 해상도의 OLED 화소 형성 가능성 확보임. 연구 목표는 화학적 침해성이 억제된 PR 및 보호층 소재 개발, 포토리소그래피 공정에 견디는 ETL 소재 확보, 10 μm급 OLED 화소와 3 μm급 PR 해상도 구현, 패턴화소 형성 공정 및 성능·수명 평가 플랫폼 구축임. 핵심 연구 내용은 고불소화 PR·증착형 보호층 설계, Fluorine 계열 ETL 도입, PDL 표면처리와 화소용 마스크 제작, 보호층 및 PR 제거 조건 최적화, 기준 소자와 패턴 소자의 구조·재료 개선임. 기대 효과는 10 마이크로 미터 급 고해상도 OLED화소 형성 기술 확보와 소자 효율·수명 저하 억제, 소재 및 공정 기술의 국산화와 수요기업 적용 기반 마련임.
유기발광 디스플레이포토리소그래피화소형성고해상도포토레지스트organic lightemitting device (OLED)photolithographypixel patterninghigh resolutionphotoresist
참여형태
주관
사업명
전자부품산업기술개발(R&D)
부처명
산업통상자원부
주관기관명
인하대학
공동/위탁수행기관명
성균관대학, 엘지디스플레이(주), 충남대학, 엘티소재(주), 삼성디스플레이(주), 한국전자기술연구원, 서울시립대학
과제 수행연도
2024
과제 수행기간
2020.07.01 ~ 2024.12.31
과제 고유번호
2410003438
연구 개발단계
개발연구
연구비
총연구비
782,590,000 원
정부지원연구개발비
550,900,000 원
위탁연구비
0 원
민간연구비
231,690,000 원
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관인하대학대학인천광역시
공동/위탁기관 정보7건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동성균관대학대학연구·기술개발-80,000,000
공동엘지디스플레이(주)대기업연구·기술개발350,0002,600,000
공동충남대학대학연구·기술개발-35,700,000
공동엘티소재(주)중견기업연구·기술개발26,000,00081,600,000
공동삼성디스플레이(주)대기업연구·기술개발--
공동한국전자기술연구원기타연구·기술개발-112,100,000
공동서울시립대학대학연구·기술개발-100,000,000
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL